Arrêté (Arrêté) ST0206 Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2)

Cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2) est produite avec précision pour offrir une grande pureté et une structure uniforme essentielles pour les processus de pulvérisation avancés. Conçue pour répondre aux exigences rigoureuses de la microélectronique moderne et des applications de couches minces, cette cible présente une excellente stabilité thermique et une résistance à la dégradation dans des conditions extrêmes. Ses formes et ses tailles personnalisables offrent des solutions polyvalentes pour une large gamme de processus de fabrication de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2)

- Microélectronique : Idéale pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs et de circuits intégrés.
- Revêtements en couches minces : Utilisés pour déposer des films de haute qualité pour des applications optiques, électroniques et de capteurs.
- Optoélectronique : Joue un rôle essentiel dans les diodes électroluminescentes, les lasers et autres dispositifs photoniques.
- Céramiques avancées : Améliorent les performances dans les environnements corrosifs et à haute température.
- Recherche et développement : Parfait pour les installations expérimentales et de prototypage dans le domaine de la science des matériaux.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de zirconium (ZrO2) sont manipulées avec le plus grand soin pendant le stockage et le transport afin de garantir qu'elles restent en parfait état. Les produits sont emballés sur mesure selon les spécifications du client, généralement sous vide, afin de les protéger contre la contamination et les dommages physiques pendant le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications d'une cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces, la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, l'optoélectronique et la fabrication de céramiques avancées.

Q : Quelles sont les techniques de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les systèmes de pulvérisation RF et RF-R, ce qui la rend polyvalente pour divers procédés de dépôt.

Q : Quels sont les avantages de la grande pureté de cette cible pour le processus de pulvérisation ?
R : La haute pureté assure un dépôt uniforme du film, minimise la contamination et améliore la qualité et les performances globales de la couche déposée.

Q : La forme et la taille de la cible de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'oxyde de zirconium peut être personnalisée en termes de forme et de taille pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation d'oxyde de zirconium ?
R : Les industries telles que la microélectronique, l'optoélectronique, la céramique avancée et la recherche sur les matériaux utilisent largement ces cibles pour leur précision et leur durabilité.