ST0199 Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3)

Cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO₃) est un matériau de haute performance conçu pour les processus de pulvérisation de précision. Sa composition de haute pureté (≥99%), ainsi que les options de disques standard ou de formes sur mesure, garantissent des performances et une fiabilité exceptionnelles dans diverses applications de haute technologie. Avec des propriétés optimisées telles qu'un point de fusion de 1473℃ et une densité de 7,16 g/cm³, ce produit est parfaitement adapté aux processus de fabrication électronique et de dépôt de couches minces. En outre, les options de liaison adaptées, notamment l'indium et l'élastomère, offrent un support solide pour les applications de pulvérisation RF-R.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3)

- Dépôt de couches minces: Idéal pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de cellules solaires.

- Fabrication de composants électroniques: Utilisé pour produire des couches dans les circuits électroniques et les dispositifs de détection.

- Revêtements: Fournit des revêtements de haute qualité pour des applications optiques, décoratives et protectrices.

- Rechercheet développement : Parfait pour les installations expérimentales dans les domaines de la science des matériaux et de la physique appliquée.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO3)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène est soigneusement emballée pour assurer une protection optimale pendant le transport et le stockage. Elle est généralement fournie dans un emballage scellé sous vide, disponible sous forme de disques standard ou de tailles personnalisées en fonction des exigences spécifiques de l'application.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène (WO₃) ?
R : Elle est utilisée pour le dépôt de couches minces, la fabrication de composants électroniques, les revêtements et diverses applications de recherche et développement.

Q : Quel est le degré de pureté de la cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène ?
R : Le produit a une pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances optimales dans les processus de précision.

Q : Sous quelles formes la cible peut-elle être fournie ?
R : La cible est disponible sous forme de disques standard et peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des besoins spécifiques en matière de conception et d'application.

Q : Pour quel procédé de pulvérisation ce produit est-il optimisé ?
R : Il est optimisé pour les procédés de pulvérisation RF-R, ce qui le rend adapté aux applications à haute fréquence.

Q : Comment la cible de pulvérisation d'oxyde de tungstène est-elle emballée pour l'expédition ?
R : Elle est soigneusement scellée sous vide pour préserver l'intégrité du produit pendant le transport et le stockage.