ST0194 Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2)

Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) est conçue pour des applications de haute performance dans le dépôt de films minces. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible garantit une pulvérisation uniforme dans les méthodes RF et RF-R, ce qui la rend idéale pour les applications exigeant précision et cohérence. Ses propriétés robustes, notamment un point de fusion élevé de 1630℃ et une densité de 6,95 g/cm³, permettent une utilisation avancée dans les composants électroniques, les revêtements optiques et les technologies de capteurs.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2)

- Dépôt de couches minces : Garantit une formation de film cohérente et de haute qualité dans les processus de fabrication de semi-conducteurs et de revêtement optique.
- Fabrication électronique : Largement utilisé pour créer des couches d'oxyde conductrices et transparentes pour les écrans et les dispositifs photovoltaïques.
- Fabrication de capteurs : Fournit des performances fiables dans les capteurs de gaz et autres applications de détection chimique.
- Recherche et développement : Idéal pour la recherche universitaire et industrielle qui nécessite des cibles de pulvérisation de haute pureté.

Conditionnement des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) sont emballées de manière sécurisée afin de préserver l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport. Des commandes personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences industrielles spécifiques, garantissant que les cibles arrivent dans des conditions optimales pour une utilisation immédiate.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) ?
R : Elles sont principalement utilisées dans les processus de dépôt de couches minces, notamment dans l'électronique, les revêtements optiques et la fabrication de capteurs.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est optimisée pour être utilisée avec les techniques de pulvérisation RF et RF-R.

Q : Comment la pureté de la cible influence-t-elle ses performances ?
R : Une pureté de ≥99% garantit des résultats de pulvérisation cohérents, en minimisant les impuretés qui pourraient interférer avec la qualité et la performance du film.

Q : La cible peut-elle être personnalisée pour répondre à différentes exigences de fabrication ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain (SnO2) ?
R : Les industries telles que l'électronique, la photovoltaïque, la technologie des capteurs et les laboratoires de recherche bénéficient de la haute précision et de la qualité offertes par ces cibles.