ST0181 Manganate de calcium et de praséodyme (Pr0.7Ca0.3MnO3) Cible de pulvérisation cathodique

Cible de pulvérisation cathodique en manganate de calcium et de praséodyme (Pr0.7Ca0.3MnO3) Description

La cible de pulvérisation cathodique en manganate de calcium et de praséodyme (Pr0.7Ca0.3MnO3) est conçue pour des applications industrielles avancées nécessitant une durabilité et une précision élevées. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible offre des performances fiables pour le dépôt de couches minces par les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC. Ses dimensions personnalisables et ses options de liaison polyvalentes, y compris l'indium et l'élastomère, en font un choix parfait pour les environnements de recherche et de production. Les propriétés physiques robustes du matériau garantissent un fonctionnement optimal dans des conditions de traitement rigoureuses.

Cible de pulvérisation de manganate de calcium et de praséodyme (Pr0.7Ca0.3MnO3) Applications de la cible de pulvérisation

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la fabrication de revêtements de haute qualité dans les industries des semi-conducteurs et de la microélectronique.
- Ingénierie de surface : Convient à la création de couches précises et uniformes pour les revêtements optiques, magnétiques et protecteurs.
- Recherche sur les matériaux : Utilisé dans la recherche sur les matériaux avancés pour explorer de nouvelles propriétés et applications fonctionnelles.
- Revêtements industriels : Applicable à la production de revêtements résistants à l'usure et à la corrosion pour divers composants industriels.

Emballage de la cible de pulvérisation du manganate de calcium et de praséodyme (Pr0.7Ca0.3MnO3)

Nos cibles de pulvérisation sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur grande pureté et leur intégrité structurelle. Chaque unité est solidement emballée et calée pour éviter tout dommage pendant le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont également disponibles en fonction des besoins du client.

Questions fréquemment posées

Q : À quoi servent les cibles de pulvérisation ?
R : Les cibles de pulvérisation sont utilisées dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour créer des couches minces et des revêtements sur divers substrats, essentiels pour les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres applications de matériaux avancés.

Q : Comment fonctionne le processus de pulvérisation avec cette cible ?
R : Dans le processus de pulvérisation, des ions bombardent le matériau cible, provoquant l'éjection d'atomes et leur dépôt sur un substrat, formant ainsi un film mince et uniforme. La cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Pourquoi une pureté élevée (≥99%) est-elle importante pour les cibles de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée garantit une contamination minimale, ce qui permet d'obtenir une meilleure qualité de film, une meilleure adhérence et de meilleures performances des couches déposées, ce qui est essentiel pour les applications microélectroniques avancées.

Q : Que dois-je prendre en compte lorsque je commande une cible de pulvérisation personnalisée ?
R : Lorsque vous commandez des cibles personnalisées, tenez compte des dimensions requises, du type de liaison (indium, élastomère) et de la compatibilité avec votre équipement de pulvérisation afin de garantir des performances de dépôt optimales.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée avant d'être utilisée ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles de pulvérisation dans un environnement propre et sec, à température et humidité contrôlées, afin de préserver leur intégrité et d'éviter toute contamination avant utilisation.