ST0179 Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO)

Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO) est un matériau de haute performance conçu pour les applications de pulvérisation avancées. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, elle garantit un dépôt de film stable et cohérent, essentiel pour les processus industriels critiques. Disponible en forme de disque standard ou en configuration sur mesure, cette cible est optimisée pour la pulvérisation RF-R, assurant une distribution uniforme de l'énergie et une formation efficace des films minces. Avec un point de fusion de 1955℃ et une densité de 6,67 g/cm³, la cible résiste à des conditions de fonctionnement extrêmes, ce qui en fait un choix idéal pour les industries des semi-conducteurs, de l'optique et du revêtement de surface.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO)

- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit des couches minces de haute qualité pour les appareils électroniques, les capteurs et les cellules solaires.
- Revêtements optiques : Idéal pour produire des revêtements avancés avec des propriétés optiques contrôlées.
- Dispositifs énergétiques : Utile pour la fabrication de composants pour les batteries, les piles à combustible et d'autres systèmes énergétiques.
- Recherche et développement : Matériau fiable pour le développement de techniques de pulvérisation innovantes et l'étude des matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO) sont soigneusement emballées pour préserver leur pureté et leur intégrité structurelle pendant le stockage et le transport. Les cibles sont scellées sous vide dans un emballage conçu sur mesure pour répondre aux exigences spécifiques de nos clients, ce qui garantit une protection et des performances optimales à la livraison.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de la pulvérisation RF-R pour cette cible ?
R : La pulvérisation RF-R permet une distribution plus uniforme de la puissance sur la cible, ce qui se traduit par un dépôt régulier de couches minces, même sur des matériaux isolants.

Q : Comment la pureté élevée (≥99%) de la cible NiO profite-t-elle aux applications de pulvérisation ?
R : La pureté élevée minimise les impuretés dans les films déposés, ce qui garantit de meilleures propriétés électriques, optiques et mécaniques pour les applications de haute performance.

Q : La cible peut-elle être adaptée à différentes tailles et formes ?
R : Oui, outre les formes de disque standard, notre cible de pulvérisation d'oxyde de nickel (NiO) peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de processus spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui conviennent le mieux à l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, les dispositifs énergétiques et les laboratoires de recherche avancée bénéficient grandement de nos cibles NiO haute performance.

Q : Comment la cible doit-elle être manipulée pour préserver sa qualité pendant le transport ?
R : Les cibles sont scellées sous vide dans un emballage spécialisé conçu pour les protéger contre la contamination, les dommages physiques et les facteurs environnementaux pendant le transport.