Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène (MoO₃)
La cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène (MoO₃) est conçue pour les processus de pulvérisation haute performance dans les applications industrielles critiques. Fabriquée selon des normes rigoureuses, cette cible offre une consistance et une pureté excellentes pour le dépôt de couches minces avancées. Ses propriétés robustes en font un choix idéal pour la fabrication de semi-conducteurs, la production d'écrans et diverses technologies de revêtement.
Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de molybdène (MoO₃)
- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit des couches minces uniformes essentielles pour les circuits intégrés et les dispositifs microélectroniques.
- Technologies d'affichage : Utilisées pour le dépôt de films conducteurs transparents et d'autres composants d'affichage.
- Revêtements de surface : Idéal pour créer des revêtements résistants à la corrosion et à l'usure dans les applications industrielles.
- Recherche et développement : Utilisé dans les installations expérimentales pour les études sur les matériaux avancés et les nouveaux procédés de revêtement.
Cibles de pulvérisation d'oxyde de molybdène (MoO₃)
Notre cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène (MoO₃) est soigneusement emballée pour préserver sa qualité et ses performances.
L'emballage sous vide assure la protection pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande.
Questions fréquemment posées
Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Il s'agit d'une source de matériau utilisée dans les processus de pulvérisation pour déposer des couches minces sur des substrats en bombardant la cible avec des particules énergétiques.
Q : Pourquoi le MoO₃ est-il utilisé dans les cibles de pulvérisation ?
R : Le MoO₃ offre une grande pureté, une stabilité chimique et d'excellentes performances de pulvérisation, ce qui le rend idéal pour des applications de revêtement précises.
Q : Que signifie "pulvérisation RF" ?
R : La pulvérisation RF fait référence à l'utilisation de l'énergie des fréquences radio pour créer un plasma pour le processus de pulvérisation, adapté aux cibles isolantes ou faiblement conductrices.
Q : La cible peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées selon les besoins spécifiques de l'industrie.
Q : Quel est l'impact de la densité du MoO₃ sur ses performances ?
R : Une densité de 4,69 g/cm³ garantit une vitesse de pulvérisation constante et une qualité de film optimale, ce qui contribue à des résultats expérimentaux et de production fiables.
