Arrêté (Arrêté) ST0170 Titanate de plomb et de zirconium (PbZr0.52Ti0.48O3) Cible de pulvérisation cathodique

Cible de pulvérisation de titanate de plomb et de zirconium (PbZr0.52Ti0.48O3) Description

La cible de pulvérisation de titanate de plomb et de zirconium (PbZr0,52Ti0,48O3) est conçue pour des applications de haute précision dans les processus de pulvérisation. Conçue pour répondre aux exigences de l'électronique moderne et du revêtement de matériaux avancés, cette cible offre une pureté et des performances exceptionnelles. Ses caractéristiques de haute qualité garantissent la cohérence et la fiabilité dans diverses applications industrielles de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de plomb et de zirconium (PbZr0,52Ti0,48O3)

- Fabrication électronique : Idéale pour la production de films minces utilisés en microélectronique avancée.
- Revêtement de surface : Fournit des couches uniformes et cohérentes dans les applications de revêtement.
- Recherche avancée sur les matériaux : Favorise le développement et les essais dans les laboratoires de science des matériaux.
- Procédés industriels personnalisés : Disponibles dans des formes sur mesure pour répondre aux exigences de processus spécifiques.

Emballage des cibles de pulvérisation du titanate de plomb et de zirconium (PbZr0,52Ti0,48O3)

Nos cibles de pulvérisation sont soigneusement emballées dans des conditions contrôlées afin de préserver la qualité de leurs performances. Chaque cible est scellée sous vide et clairement étiquetée. Des options d'emballage personnalisées sont également proposées en fonction des besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quels types de méthodes de pulvérisation peuvent être utilisés avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) affecte-t-elle les performances du processus de pulvérisation ?
R : La haute pureté garantit un minimum d'impuretés, ce qui permet d'obtenir une qualité de film constante et des performances fiables dans les applications critiques.

Q : Les formes et les tailles des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, des options sur mesure sont disponibles pour répondre à des exigences de production uniques.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de titanate de plomb et de zirconium ?
R : Les industries telles que la fabrication électronique, le revêtement de surface et la recherche sur les matériaux avancés utilisent couramment ces cibles de pulvérisation.

Q : En quoi la densité de ~8,0 g/cm³ est-elle importante pour les performances de la cible ?
R : La densité spécifiée est cruciale pour obtenir l'intégrité structurelle et les performances souhaitées au cours du processus de pulvérisation, en garantissant un dépôt uniforme.