ST0168 Cible de pulvérisation du zirconate de plomb (PbZrO3)

Cible de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3) Description

La cible de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3) est conçue à l'aide de techniques de fabrication avancées pour atteindre une pureté et une cohérence exceptionnelles. Avec un point de fusion de ~2230℃ et une densité d'environ 8,0 g/cm³, cette cible est conçue pour fonctionner parfaitement dans diverses conditions de pulvérisation, y compris les méthodes RF, RF-R et DC. Adaptée au dépôt de couches minces de haute qualité, cette cible est idéale pour les applications microélectroniques et ferroélectriques où la précision et la fiabilité sont essentielles.

Applications des cibles de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3)

- Dépôt de couches minces : Parfait pour la fabrication de couches ferroélectriques et diélectriques de haute qualité dans les dispositifs microélectroniques.
- Fabrication de capteurs : Utilisé dans la production de capteurs et d'actionneurs avancés, en tirant parti de ses propriétés matérielles supérieures.
- Dispositifs énergétiques : Appliqué au développement de condensateurs efficaces et de composants de stockage d'énergie.
- Céramiques avancées : idéales pour la recherche et les applications industrielles nécessitant des matériaux céramiques de haute performance.

Cibles de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3)

Nos cibles de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3) sont soigneusement emballées afin de préserver leur intégrité tout au long du transport et du stockage. Chaque cible est emballée sur mesure pour éviter toute contamination et garantir des performances optimales à l'arrivée. Des options d'emballage spéciales sont disponibles sur demande pour répondre à des besoins logistiques spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les techniques de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est conçue pour les procédés de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui la rend polyvalente pour une gamme de systèmes de dépôt.

Q : Comment la haute pureté (≥99%) profite-t-elle au processus de pulvérisation ?
R : La haute pureté minimise les impuretés dans les couches minces, ce qui garantit l'uniformité, l'amélioration des propriétés électriques et l'amélioration globale des performances des dispositifs.

Q : Puis-je demander une forme personnalisée pour la cible de pulvérisation ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre aux exigences d'un équipement spécifique.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement la cible de pulvérisation au zirconate de plomb (PbZrO3) ?
R : Cette cible est largement utilisée en microélectronique, dans la fabrication de capteurs, dans les dispositifs énergétiques et dans les applications céramiques avancées.

Q : Comment le produit est-il emballé pour garantir sa qualité lors de l'expédition ?
R : Chaque cible est emballée de manière sûre dans des conteneurs spécialisés conçus pour la protéger contre la contamination, les dommages physiques et les facteurs environnementaux pendant le transport.