ST0166 Cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO)

Cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO) est un matériau de haute performance conçu pour des applications industrielles avancées. Fabriquée selon les normes de pureté les plus élevées (≥99%) et disponible sous forme de disques personnalisés, cette cible est spécialement conçue pour diverses techniques de pulvérisation, notamment RF, RF-R et DC. Sa composition chimique stable et ses propriétés physiques supérieures garantissent des performances optimales pendant le processus de pulvérisation, ce qui en fait un choix idéal pour la fabrication de composants électroniques, les revêtements optiques et d'autres applications de précision.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO)

- Dispositifs semi-conducteurs : Essentielle pour la fabrication de couches minces de haute qualité dans les industries de l'électronique et des semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Utilisées pour déposer des revêtements uniformes et durables pour les lentilles et les instruments optiques.
- Traitement de surface : Utilisé dans les processus de pulvérisation pour améliorer les propriétés de la surface et l'adhérence.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans la recherche sur les matériaux avancés et les nanotechnologies.
- Fabrication industrielle : Convient aux applications de revêtement de haute précision dans divers secteurs industriels.

Emballage des cibles de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO) est emballée de manière sécurisée afin de préserver son intégrité pendant le stockage et le transport.
Emballage scellé sous vide : Les options disponibles comprennent 5 kg par sac ou 25 kg par fût, personnalisables en fonction de vos besoins.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications de la cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO) ?
R : Elle est principalement utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les revêtements optiques et divers processus de dépôt de couches minces.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est compatible avec les méthodes de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui garantit la polyvalence de ses applications.

Q : Comment la pureté de la cible affecte-t-elle les performances de pulvérisation ?
R : Une pureté de ≥99% garantit une contamination minimale pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir des couches minces uniformes et de haute qualité.

Q : La cible peut-elle être adaptée à des tailles ou des formes spécifiques ?
R : Oui, la cible de pulvérisation d'oxyde de plomb (PbO) est disponible sous forme de disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de conception spécifiques.

Q : Quels sont les éléments à prendre en compte pour une manipulation et un stockage corrects de la cible ?
R : La cible doit être stockée dans un environnement contrôlé, sous vide, afin de préserver son intégrité et ses performances dans le temps.