ST0165 Cible de pulvérisation de l'oxyde de lanthane et de vanadium (LaVO3)

Cible de pulvérisation d'oxyde de lanthane et de vanadium (LaVO3) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de lanthane et de vanadium (LaVO3) est un matériau de première qualité conçu pour les applications avancées de dépôt de couches minces et de revêtement de surface. Fabriquée avec une précision méticuleuse, cette cible garantit une intégrité structurelle et une stabilité élevées, ce qui en fait un choix idéal pour les processus industriels de haute performance.

Construite pour répondre à des normes de qualité rigoureuses, la cible offre des performances de pulvérisation homogènes en modes RF, RF-R et DC. Sa grande pureté et ses options de fabrication personnalisées permettent aux utilisateurs d'obtenir une uniformité de film supérieure et une fiabilité de produit accrue dans des applications couvrant la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, de cellules solaires et d'autres technologies de pointe.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde de lanthane et de vanadium (LaVO3)

- Dépôt de couches minces : Facilite la création de couches minces uniformes et de haute qualité pour les dispositifs électroniques avancés.
- Fabrication de semi-conducteurs : Idéal pour produire des composants précis dans la fabrication de semi-conducteurs.
- Revêtements de surface : Améliorent la résistance à l'usure et la protection contre la corrosion des outils et machines industriels.
- Recherche et développement : Soutient les efforts de R&D avancés dans les domaines de la science des matériaux et de la physique appliquée.

Conditionnement des cibles de pulvérisation de l'oxyde de lanthane et de vanadium (LaVO3)

Nos cibles de pulvérisation sont emballées dans des conditions contrôlées afin de préserver l'intégrité du produit. Chaque cible est soigneusement scellée sous vide et disponible dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les modes de pulvérisation pris en charge par cette cible ?
R : La cible prend en charge la pulvérisation RF, RF-R et DC, offrant ainsi une grande polyvalence pour diverses techniques de dépôt.

Q : Cette cible peut-elle être personnalisée en fonction d'exigences spécifiques ?
R : Oui, la cible est disponible dans des formes et des tailles personnalisées pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.

Q : Pour quelles applications la cible de pulvérisation d'oxyde de lanthane et de vanadium est-elle la mieux adaptée ?
R : Elle est idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements de surface et la R&D avancée en science des matériaux.

Q : Comment la grande pureté de la cible profite-t-elle au processus de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée (≥99%) garantit une qualité de film constante, une efficacité de dépôt améliorée et une contamination minimisée pendant le traitement.

Q : Quelles sont les mesures prises lors de l'emballage pour maintenir la qualité de la cible ?
R : Les cibles sont scellées sous vide et manipulées dans des conditions contrôlées afin de préserver leur intégrité et leurs performances de la production à l'utilisation finale.