Cible de pulvérisation de manganate de calcium et de lanthane (La0.67Ca0.33MnO3) Description
La cible de pulvérisation de manganate de calcium et de lanthane (La0.67Ca0.33MnO3) est conçue pour les applications avancées de dépôt de couches minces. Fabriquée avec un mélange précis de La2O3, Mn3O4 et CaO, cette cible garantit des performances constantes dans des conditions de pulvérisation exigeantes. Sa grande pureté et sa microstructure contrôlée permettent un dépôt fiable, tant dans le domaine de la recherche que dans celui de l'industrie. Conçue pour être compatible avec les systèmes de pulvérisation RF, RF-R et DC, elle offre une qualité de film uniforme et d'excellentes propriétés d'adhérence.
Cible de pulvérisation de manganate de calcium et de lanthane (La0.67Ca0.33MnO3) Applications de la cible de pulvérisation
- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : Idéale pour produire des couches minces de haute qualité dans les composants électroniques.
- Revêtements optiques : Utilisés dans la fabrication de filtres optiques précis, de miroirs et d'autres composants.
- Technologies d'affichage : Prend en charge les processus de dépôt dans la production de panneaux LCD et OLED.
- Recherche avancée : Offre des performances constantes pour les études en science des matériaux et les applications expérimentales.
- Revêtements industriels : Fournit une excellente uniformité de film pour les revêtements protecteurs et fonctionnels dans diverses industries.
Emballage des cibles de pulvérisation cathodique de manganate de calcium et de lanthane (La0.67Ca0.33MnO3)
Nos cibles de pulvérisation sont emballées avec le plus grand soin pour garantir qu'elles arrivent en parfait état. Elles sont disponibles sous forme de disques standard ou de configurations personnalisées, et sont expédiées dans des conditions contrôlées afin de maintenir leur haute qualité tout au long du transport.
Questions fréquemment posées
Q : Quelles sont les techniques de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les systèmes de pulvérisation RF, RF-R et DC, ce qui la rend polyvalente pour divers procédés de dépôt de couches minces.
Q : Puis-je demander une forme ou une taille personnalisée pour la cible de pulvérisation ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disques standard ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre aux exigences d'une application spécifique.
Q : En quoi la composition La2O3 / Mn3O4 / CaO est-elle bénéfique pour le processus de pulvérisation ?
R : La composition précise garantit une pureté élevée et une microstructure contrôlée, ce qui se traduit par une qualité de film constante, des conditions de dépôt stables et des performances accrues.
Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de manganate de calcium et de lanthane ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de revêtements optiques, la technologie d'affichage et les applications de recherche avancée.
Q : En quoi le point de fusion élevé de ~1400-1500℃ est-il avantageux pour les applications de pulvérisation ?
R : Un point de fusion élevé garantit une excellente stabilité thermique pendant la pulvérisation, ce qui permet à la cible de supporter des opérations de forte puissance sans compromettre les performances.
