ST0158 Cible de pulvérisation de l'aluminate de lanthane (LaAlO3)

Cible de pulvérisation d'aluminate de lanthane (LaAlO3) Description

La cible de pulvérisation d'aluminate de lanthane (LaAlO3) est conçue pour des performances supérieures dans les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée avec une pureté (≥99%) et une précision élevées, elle est optimisée pour une utilisation dans les techniques de pulvérisation RF, RF-R et DC. Avec un point de fusion de ~2080℃ et une densité de ~6,52 g/cm³, cette cible fournit des résultats cohérents et fiables dans les applications de haute technologie. Ses excellentes propriétés matérielles en font un choix idéal pour les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques et les applications énergétiques où une stabilité thermique et des performances élevées sont essentielles.

Applications des cibles de pulvérisation d'aluminate de lanthane (LaAlO3)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des films diélectriques et isolants de haute qualité dans les industries des semi-conducteurs et des écrans.
- Électronique avancée : Utilisée dans la fabrication de condensateurs, de capteurs et d'autres composants électroniques nécessitant une uniformité précise du film.
- Revêtements optiques : Convient à la production de composants optiques présentant une excellente transparence et une résistance à la dégradation optique.
- Applications énergétiques : Utilisées dans le développement de dispositifs à haut rendement énergétique et de systèmes avancés de stockage de l'énergie.

Cibles de pulvérisation en aluminate de lanthane (LaAlO3)

Nos cibles de pulvérisation d'aluminate de lanthane sont fabriquées et conditionnées avec le plus grand soin afin de préserver leur pureté et leur qualité. Les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des besoins industriels spécifiques. Chaque unité est emballée de manière sécurisée pour assurer sa protection pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les principales applications des cibles de pulvérisation de l'aluminate de lanthane ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les domaines de l'électronique, de l'optique et de l'énergie, où une stabilité thermique et une pureté élevées sont essentielles.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est optimisée pour les procédés de pulvérisation RF, RF-R et DC.

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible de pulvérisation en aluminate de lanthane (LaAlO3) ?
R : Le produit est fabriqué à un niveau de pureté de ≥99%.

Q : La cible peut-elle être produite dans des formes autres que des disques ?
R : Oui, des cibles sur mesure sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les principales propriétés physiques de cette cible de pulvérisation ?
R : Elle présente un point de fusion de ~2080℃ et une densité de ~6,52 g/cm³, ce qui garantit d'excellentes performances dans les applications à haute température.