ST0156 Cible de pulvérisation d'oxyde de fer (Fe2O3)

Cible de pulvérisation d'oxyde de fer (Fe2O3) Description

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de fer (Fe2O3) est un matériau de haute performance conçu pour les processus de pulvérisation avancés. Fabriquée sous des contrôles de qualité stricts, cette cible garantit une pureté et une durabilité excellentes pour les applications critiques. Conçue pour le dépôt de films de précision, elle offre des performances constantes et des revêtements uniformes. Ses disques personnalisables ou ses formes spécialement conçues lui permettent de s'adapter à un large éventail d'exigences industrielles, de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs à la technologie d'affichage.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de fer (Fe2O3)

- Dispositifs à semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de transistors et de capteurs.
- Technologies d'affichage : Utilisées dans les processus de revêtement des écrans LCD, des panneaux OLED et d'autres composants d'affichage.
- Revêtements de surface : Permet de créer des couches fonctionnelles et résistantes à l'usure sur divers substrats.
- Cellules solaires : Aide au dépôt de films d'oxyde pour améliorer l'efficacité photovoltaïque.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de fer (Fe2O3)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de fer sont emballées dans des conteneurs scellés résistants à l'humidité afin de préserver l'intégrité du produit pendant l'expédition et le stockage. Les options d'emballage standard peuvent être personnalisées en fonction de la taille de la commande et des exigences de l'application.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation recommandées pour cette cible ?
R : La cible d'oxyde de fer fonctionne de manière optimale avec les techniques de pulvérisation RF et RF-R, garantissant un dépôt de film uniforme et de haute qualité.

Q : Puis-je personnaliser la forme ou la taille de cette cible de pulvérisation ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées. Veuillez contacter notre service d'assistance technique pour discuter de vos besoins spécifiques.

Q : Quelles sont les applications qui bénéficient le plus de l'utilisation de cibles de pulvérisation d'oxyde de fer ?
R : Ces cibles sont idéales pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, les processus de revêtement d'écrans, les applications de revêtement de surface et la production de cellules solaires.

Q : Quel est l'impact du niveau de pureté de la cible sur ses performances ?
R : Avec une pureté de ≥99 %, la cible garantit un minimum d'impuretés, ce qui permet d'obtenir une qualité de film constante, des performances accrues et une meilleure fiabilité dans diverses applications.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir la qualité de la cible pendant l'emballage et le transport ?
R : Nos produits sont scellés sous vide et emballés dans des conteneurs résistants à l'humidité afin de garantir que la cible conserve son intégrité et ses performances de l'usine à l'utilisateur final.