ST0155 Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de zinc (IZO)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de zinc (IZO)

La cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de zinc (IZO) est conçue pour fournir des performances exceptionnelles dans une variété de processus de dépôt. Fabriquée avec une composition de haute pureté d'In2O3/ZnO, cette cible fournit des résultats cohérents et fiables dans les systèmes de pulvérisation RF et DC pour les applications de couches minces. Sa disponibilité dans des formes personnalisées, y compris des disques ou des formes spécialement conçues, répond aux besoins spécifiques des industries de l'optoélectronique, de la technologie d'affichage et des semi-conducteurs.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et de zinc (IZO)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour créer des revêtements conducteurs transparents de haute qualité utilisés dans les écrans d'affichage et les écrans tactiles.
- Optoélectronique : Essentiel pour la production de panneaux LED, d'écrans plats et d'appareils intelligents.
- Dispositifs à semi-conducteurs : Offre des performances supérieures dans la fabrication de composants électroniques à haut rendement énergétique.
- Photovoltaïque : améliore l'efficacité et la durabilité des cellules solaires grâce à l'application précise de couches minces.
- Revêtements fonctionnels : Offre d'excellentes propriétés électriques et optiques pour la fabrication d'appareils de précision.

Conditionnement des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et de zinc (IZO)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de zinc (IZO) est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa pureté et ses performances. Elle est livrée dans un emballage résistant à l'humidité et à l'électricité statique afin de garantir un état optimal pendant le stockage et le transport. Pour les besoins spécifiques, des options d'emballage personnalisées sont également disponibles.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application typique de la cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et de zinc (IZO) ?
R : Elle est couramment utilisée pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs optoélectroniques, les composants semi-conducteurs et les technologies d'affichage.

Q : La cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible peut être fabriquée dans des formes et des tailles personnalisées pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est conçue pour les processus de pulvérisation RF et DC, ce qui garantit une compatibilité polyvalente avec divers systèmes de dépôt.

Q : Quelle est la composition de la cible de pulvérisation ?
R : La cible est composée d'un mélange de haute pureté d'In2O3 et de ZnO, garantissant des performances exceptionnelles avec une pureté de ≥99%.

Q : Comment la cible est-elle emballée pour préserver sa qualité ?
R : Elle est emballée dans des conteneurs résistants à l'humidité et à l'électricité statique, avec des options de personnalisation supplémentaire pour préserver la qualité pendant le stockage et le transport.