ST0153 Cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain (In2O3/SnO2)

Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain et d'indium (In2O3/SnO2) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde d'étain et d'indium (In2O3/SnO2) est un matériau de haute performance développé pour les processus de dépôt de couches minces utilisés dans l'électronique moderne, la technologie d'affichage et les applications d'énergie solaire. Fabriquée selon des normes de qualité strictes, cette cible de pulvérisation présente une stabilité et une durabilité excellentes, ce qui la rend idéale pour les systèmes de pulvérisation RF et DC. Sa grande pureté, sa composition précise et ses formes personnalisables (disques ou configurations sur mesure) garantissent une formation de film fiable et uniforme, essentielle à la fabrication de dispositifs avancés.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde d'indium et d'étain (In2O3/SnO2)

- Technologie d'affichage : Utilisé dans la production d'écrans plats, d'écrans tactiles et de panneaux LED en raison de son excellente transparence et de sa conductivité.
- Cellules solaires : Améliore les performances des cellules photovoltaïques en contribuant à la conduction efficace des électrons et à la transparence.
- Transistors à couche mince : Utilisés dans les capteurs et les circuits électroniques où l'uniformité des propriétés électriques est cruciale.
- Appareils électroniques avancés : Idéal pour les applications à haute fréquence et à haute puissance dans les dispositifs semi-conducteurs modernes.
- Revêtements optiques : Utilisés dans la fabrication de fenêtres intelligentes et d'autres dispositifs nécessitant des propriétés optiques précises.

Cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain et d'indium (In2O3/SnO2)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain et d'indium sont emballées avec le plus grand soin afin de préserver leur intégrité pendant le transport et le stockage. L'emballage standard comprend des conteneurs antistatiques et à humidité contrôlée, chaque disque ou ensemble de formes sur mesure étant solidement emballé afin d'éviter toute contamination ou tout dommage.

Questions fréquemment posées

Q : Pour quelles applications la cible de pulvérisation d'oxyde d'indium et d'étain est-elle la mieux adaptée ?
R : Elle est idéalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les technologies d'affichage, les cellules solaires, les transistors à couches minces et divers dispositifs électroniques avancés.

Q : Quels procédés de pulvérisation peuvent être utilisés avec cette cible ?
R : La cible est optimisée pour les procédés de pulvérisation RF et DC, ce qui offre de nombreuses possibilités d'application.

Q : Comment un niveau de pureté de ≥99% affecte-t-il les performances de la cible ?
R : Une pureté élevée garantit une contamination minimale, ce qui permet de déposer un film uniforme et d'améliorer les performances dans les applications électroniques sensibles.

Q : Puis-je commander une cible de pulvérisation de forme personnalisée ?
R : Oui, en plus des formes de disques standard, des configurations sur mesure sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Comment les cibles de pulvérisation doivent-elles être stockées ?
R : Elles doivent être stockées dans un environnement propre, sec et contrôlé afin d'éviter toute contamination et de préserver la qualité du matériau.