Arrêté (Arrêté) ST0145 Cible de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3)

Cible de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3) est conçue pour des applications de précision dans les processus de pulvérisation. Fabriquée avec une pureté de ≥99%, cette cible garantit d'excellentes performances de dépôt de film et une grande cohérence. Ses propriétés thermiques robustes et sa compatibilité avec les systèmes de pulvérisation RF et DC offrent une polyvalence inégalée pour les semi-conducteurs, l'optique et les applications industrielles. Ce produit est conçu pour offrir une fiabilité et une uniformité élevées, ce qui en fait un composant indispensable dans les technologies avancées de revêtement et de couches minces.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3)

- Fabrication de semi-conducteurs : Idéale pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs microélectroniques et les circuits intégrés.
- Revêtements optiques : Permet la production de revêtements optiques de haute qualité avec une transparence et une durabilité supérieures.
- Pulvérisation industrielle : Utilisé dans les processus de pulvérisation de plasma pour les traitements de surface de précision.
- Recherche et développement : Fournit un matériau fiable pour les montages expérimentaux dans les domaines de la science des matériaux et de la nanotechnologie.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de dysprosium (Dy2O3) est soigneusement emballée pour préserver son intégrité et ses performances pendant le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de nos clients, garantissant des conditions de livraison et de stockage optimales.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles de pulvérisation d'oxyde de dysprosium ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de revêtements optiques, la pulvérisation industrielle et la recherche et le développement dans le domaine de la science des matériaux.

Q : Comment le niveau de pureté élevé (≥99%) profite-t-il au processus de pulvérisation ?
R : La pureté élevée garantit un dépôt de film cohérent et sans défaut, ce qui est essentiel pour les applications de haute performance et la fabrication de dispositifs fiables.

Q : La cible de pulvérisation peut-elle être utilisée avec des systèmes de pulvérisation RF et DC ?
R : Oui, la cible est conçue pour être compatible avec les méthodes de pulvérisation RF et DC, ce qui offre une grande souplesse pour divers procédés industriels.

Q : Des formes personnalisées sont-elles disponibles pour des applications spécialisées ?
R : Oui, bien que le produit soit généralement disponible sous forme de disque, des formes sur mesure peuvent être fournies pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelles sont les mesures mises en place pour garantir la qualité de la cible pendant le transport ?
R : Le produit est emballé à l'aide de solutions personnalisées conçues pour le protéger contre les dommages et la contamination, ce qui garantit qu'il arrive dans des conditions optimales.