ST0140 Cible de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2)

Cible de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2) est un matériau de haute performance conçu pour les applications avancées de dépôt de couches minces. Fabriquée à l'aide de méthodes de fabrication de pointe, cette cible garantit une distribution uniforme de l'énergie et une qualité constante du film pendant la pulvérisation. Son excellente stabilité thermique et sa résistance à l'oxydation la rendent particulièrement adaptée aux applications dans les domaines des semi-conducteurs, de l'optique et de la céramique. Les formes et tailles personnalisées permettent une intégration polyvalente dans divers systèmes de dépôt, offrant des performances fiables et efficaces dans des environnements industriels exigeants.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les dispositifs à semi-conducteurs et les revêtements optiques.
- Modification de surface : Améliore la résistance à l'usure et fournit une protection contre la corrosion.
- Revêtements avancés : Utilisés dans les surfaces techniques pour les supports de catalyseurs, les capteurs et les dispositifs énergétiques.
- Optoélectronique : Appliquée à la production d'écrans et de cellules photovoltaïques.

Cibles de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO2) sont soigneusement emballées pour garantir leur intégrité pendant le transport et le stockage. Elle est généralement scellée sous vide ou fixée dans un emballage moulé sur mesure, conçu spécifiquement pour répondre aux exigences de configuration et de taille.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation d'oxyde de cérium (CeO₂) ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les applications de revêtement de semi-conducteurs, d'optique et de haute technologie.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : La cible est optimisée pour les procédés de pulvérisation RF et RF-R.

Q : Puis-je demander une taille ou une forme personnalisée pour la cible ?
R : Oui, la cible est disponible dans des tailles personnalisées, y compris des disques standard ou d'autres configurations sur mesure.

Q : Comment le niveau de pureté de ≥99% affecte-t-il les performances ?
R : Un niveau de pureté élevé garantit des performances de pulvérisation constantes et une qualité de film supérieure en minimisant les impuretés pendant le processus de dépôt.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cette cible de pulvérisation ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'optique, la céramique et les applications de revêtement avancées bénéficient grandement de ses caractéristiques de précision et de haute performance.