ST0137 Cible de pulvérisation d'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12)

Description de la cible de pulvérisation d'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12)

La cible de pulvérisation de l'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12) est conçue pour le dépôt de couches minces de haute performance, en particulier dans les applications exigeant des propriétés magnétiques et optiques uniques. Développée à l'aide de techniques de fabrication avancées, cette cible de pulvérisation garantit une uniformité et une cohérence exceptionnelles pour une croissance fiable des films. Sa pureté élevée de ≥99 % en fait un choix idéal pour les dispositifs magnéto-optiques, les composants micro-ondes et diverses applications de semi-conducteurs. Stanford Advanced Materials continue de repousser les limites de la science des matériaux avec des produits innovants qui répondent aux exigences rigoureuses des industries modernes de haute technologie.

Applications des cibles de pulvérisation de l'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12)

- Dépôt de couches minces : Utilisé dans les dispositifs magnéto-optiques et les circuits intégrés pour la formation précise de films.
- Dispositifs à micro-ondes : Améliore les performances des composants à micro-ondes et des systèmes de communication.
- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit des films de haute qualité pour les applications de semi-conducteurs avancées.
- Technologie des capteurs : Utilisée pour développer des capteurs magnétiques sensibles pour des applications industrielles et de recherche.

Cibles de pulvérisation de l'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12)

Notre cible de pulvérisation d'oxyde de fer bismuthique (Bi3Fe5O12) est soigneusement emballée pour préserver son intégrité et sa pureté.
- Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques des clients.
- L'emballage standard garantit un transport et un stockage sûrs, tout en préservant les performances optimales du produit.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les principaux domaines d'application de la cible de pulvérisation d'oxyde de fer et de bismuth ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les dispositifs magnéto-optiques, les composants micro-ondes, la fabrication de semi-conducteurs et la technologie des capteurs.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation est-elle assurée ?
R : Avec une pureté de ≥99%, notre cible de pulvérisation est produite selon des protocoles de contrôle de qualité stricts afin de garantir des performances élevées et constantes.

Q : La cible peut-elle être personnalisée en termes de forme et de taille ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque ou peut être personnalisé pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Qu'est-ce qui rend l'oxyde de fer et de bismuth (Bi3Fe5O12) intéressant pour les applications technologiques de pointe ?
R : Ses propriétés magnétiques et optiques uniques, associées à une pureté et une uniformité élevées, en font un matériau idéal pour la fabrication de films minces et de dispositifs de haute performance.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être stockée et manipulée ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, avec une exposition minimale aux contaminants, afin de conserver son état impeccable et de garantir des performances fiables.