ST0134 Cible de pulvérisation du zirconate de baryum (BaZrO3)

Cible de pulvérisation au zirconate de baryum (BaZrO₃) Description

La cible de pulvérisation au zirconate de baryum (BaZrO₃) est méticuleusement conçue pour un dépôt de couches minces fiable et de haute qualité. Conçue pour des applications industrielles exigeantes, elle offre des performances constantes dans les systèmes de pulvérisation RF et DC. Fabriquée avec un niveau de pureté de ≥99%, cette cible est disponible en forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques. Sa conception robuste et ses excellentes propriétés matérielles la rendent idéale pour les applications avancées dans le traitement des semi-conducteurs, les revêtements céramiques et la fabrication de dispositifs électroniques.

Applications des cibles de pulvérisation du zirconate de baryum (BaZrO₃)

- Dépôt de couches minces : Parfaites pour créer des films uniformes de haute qualité dans les applications de semi-conducteurs et de céramiques.
- Fabrication de dispositifs électroniques : Essentiel pour la production d'écrans, de capteurs et de cellules solaires de pointe.
- Revêtements céramiques : Ils fournissent des revêtements durables et résistants à la corrosion pour les composants électroniques de haute performance.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales nécessitant des cibles de pulvérisation précises et de grande pureté.

Emballage de cibles de pulvérisation au zirconate de baryum (BaZrO₃)

Notre cible de pulvérisation au zirconate de baryum est emballée avec le plus grand soin afin de garantir qu'elle reste en parfait état tout au long de son stockage et de son transport.
- Emballage scellé sous vide pour éviter toute contamination
- Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur la base des spécifications du client.
- Les tailles d'emballage standard sont adaptées aux exigences de l'utilisation industrielle.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de la cible de pulvérisation au zirconate de baryum ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, l'électronique, la céramique et la recherche sur les matériaux avancés bénéficient largement de sa grande pureté et de ses performances en matière de dépôt de couches minces.

Q : Comment le double mode de pulvérisation (RF et DC) améliore-t-il les performances de cette cible ?
R : La double capacité de pulvérisation permet une plus grande polyvalence et une plus grande efficacité dans le dépôt de films sur divers substrats, en optimisant les paramètres du processus pour différents systèmes de matériaux.

Q : Quels sont les principaux avantages de l'utilisation de BaZrO₃ par rapport à d'autres cibles de pulvérisation ?
R : BaZrO₃ offre une grande stabilité chimique, une excellente intégrité structurelle et des performances supérieures dans les environnements difficiles, ce qui le rend idéal pour les applications de dépôt de précision.

Q : La cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée pour répondre aux exigences d'un projet spécifique ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure, ce qui permet de s'adapter à des applications industrielles et à des processus de fabrication uniques.

Q : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité mises en place pendant la fabrication de la cible ?
R : Le produit est soumis à des tests d'assurance qualité rigoureux, y compris la validation de la pureté et des tests de performance dans des conditions de pulvérisation RF et DC, ce qui garantit une production fiable et cohérente.