ST0132 Cible de pulvérisation du titanate de baryum (BaTiO3)

Cible de pulvérisation du titanate de baryum (BaTiO3) Description

La cible de pulvérisation de titanate de baryum (BaTiO3) est conçue pour répondre aux exigences rigoureuses des processus industriels modernes. Fabriquée à l'aide de techniques de pointe, cette cible présente une microstructure cohérente et une excellente uniformité de surface, ce qui garantit des performances fiables lors du dépôt par pulvérisation cathodique. Sa constante diélectrique élevée inhérente en fait un choix idéal pour la fabrication de condensateurs, de capteurs et de divers dispositifs électroniques. En outre, les formes personnalisées disponibles permettent d'élaborer des solutions sur mesure pour répondre aux besoins spécifiques en matière de conception et d'application.

Applications des cibles de pulvérisation du titanate de baryum (BaTiO3)

- Électronique : Essentiel pour la fabrication de condensateurs, de capteurs et de dispositifs ferroélectriques.
- Systèmes microélectromécaniques (MEMS) : assure des performances fiables dans les composants miniaturisés.
- Technologies de revêtement : Utilisées dans le dépôt par pulvérisation cathodique pour créer des couches minces aux propriétés électriques supérieures.
- Appareils industriels : Convient aux applications de haute précision dans les actionneurs et les transducteurs.
- Recherche et développement : Idéal pour le prototypage de nouveaux matériaux et de structures d'appareils dans les laboratoires de pointe.

Emballage de cibles de pulvérisation du titanate de baryum (BaTiO3)

Nos cibles de pulvérisation en titanate de baryum sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité pendant le stockage et le transport. Chaque cible est solidement emballée à l'aide de matériaux antistatiques et de rembourrage afin d'éviter tout dommage, ce qui garantit qu'elle vous parviendra dans un état impeccable. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de logistique et de sécurité.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de titanate de baryum ?
R : Elles sont largement utilisées dans l'industrie électronique pour la fabrication de condensateurs, de capteurs, de dispositifs MEMS et de diverses applications de couches minces.

Q : Quelles méthodes de pulvérisation peuvent être appliquées avec cette cible ?
R : Cette cible est compatible avec les techniques de pulvérisation RF et DC.

Q : Les formes des cibles en titanate de baryum peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, en plus des disques standard, des formes sur mesure sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Comment le niveau de pureté affecte-t-il les performances de la cible de pulvérisation ?
R : Un niveau de pureté de ≥99% garantit un minimum d'impuretés, ce qui est crucial pour obtenir des propriétés diélectriques supérieures et des performances de pulvérisation constantes.

Q : Quelles sont les précautions à prendre lors de la manipulation des cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de les manipuler dans un environnement propre et antistatique et de suivre les directives d'emballage appropriées pour maintenir l'intégrité du matériau pendant le stockage et le transport.