Discontinued (Arrêté) ST0131 Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine (ATO)

Cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine (ATO) Description

La cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine (ATO) est un matériau de pointe conçu pour les processus de dépôt de couches minces à haute performance. Fabriquée avec une composition unique de Sb2O3-SnO2 et une pureté d'au moins 99 %, cette cible est conçue pour offrir une fiabilité et une uniformité exceptionnelles lors de la pulvérisation. Ses excellentes propriétés matérielles garantissent un dépôt stable dans les applications à forte demande, assurant un contrôle précis du film et une uniformité sur toute une gamme de substrats.

Applications des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine (ATO)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour le dépôt de couches uniformes dans les écrans, les panneaux solaires et autres dispositifs électroniques.
- Fabrication de produits électroniques : Utilisé dans la fabrication de revêtements conducteurs et d'électrodes transparentes.
- Revêtements de surface : Appliqués dans les processus de revêtement avancés pour améliorer les propriétés thermiques et optiques.
- Recherche et développement : Permet de réaliser des installations expérimentales dans les domaines de la science des matériaux et de la nanofabrication.

Conditionnement des cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine (ATO)

Nos cibles de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité et leurs performances. Chaque cible est scellée sous vide et manipulée selon des processus de contrôle de qualité stricts, garantissant un état optimal à la livraison. Les options d'emballage sont personnalisables pour répondre aux exigences spécifiques de logistique et de stockage.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'utilisation principale de la cible de pulvérisation ATO ?
R : La cible de pulvérisation ATO est principalement utilisée pour déposer des couches minces dans l'électronique, telles que des couches conductrices transparentes pour les écrans et les cellules solaires.

Q : Comment la cible de pulvérisation d'oxyde d'étain dopé à l'antimoine est-elle fabriquée ?
R : Elle est fabriquée à l'aide de techniques de traitement des poudres de précision et de méthodes de frittage afin d'obtenir un matériau homogène de grande pureté, idéal pour les applications de pulvérisation.

Q : Quelles sont les principales propriétés de la cible de pulvérisation ATO ?
R : Les principales propriétés sont une grande pureté (≥99%), une densité contrôlée (6,8 g/cm³) et une composition optimisée pour un dépôt cohérent de couches minces.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être personnalisées pour répondre à des exigences de conception spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de cibles de pulvérisation ATO ?
R : Les industries telles que l'électronique, la photonique et la recherche sur les matériaux avancés bénéficient de ses excellentes performances dans les processus de dépôt de couches minces.