Arrêté (Arrêté) ST0128 Cible de pulvérisation cathodique en zirconium tungstène (Zr/W)

Cible de pulvérisation cathodique en zirconium tungstène (Zr/W) Description

La cible de pulvérisation Zirconium Tungstène (Zr/W) est produite avec une pureté de ≥99% et est disponible sous forme de disques ou de configurations personnalisées. Développée selon des normes de contrôle de qualité strictes, cette cible est idéale pour les processus avancés de dépôt physique en phase vapeur utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de panneaux d'affichage et les revêtements optiques. Sa composition unique Zr/W offre une efficacité de dépôt constante et résiste à des environnements de pulvérisation sous forte contrainte, ce qui en fait un composant fiable pour la recherche et les applications industrielles haut de gamme.

Applications des cibles de pulvérisation Zirconium Tungstène (Zr/W)

- Dépôt de couches minces : Parfait pour la fabrication des semi-conducteurs et de la microélectronique.
- Technologie d'affichage : Idéal pour la fabrication de panneaux d'affichage avancés.
- Revêtements optiques : Utilisé pour le dépôt de revêtements optiques et protecteurs de haute performance.
- Revêtements industriels : Convient à la production de surfaces résistantes à l'usure et à la corrosion.
- Procédés industriels personnalisés : Adaptés aux applications de recherche et de fabrication spécialisées.

Emballage de cibles de pulvérisation de zirconium tungstène (Zr/W)

Nos cibles de pulvérisation de zirconium tungstène (Zr/W) sont scellées sous vide et emballées avec soin pour préserver leur pureté et éviter toute contamination pendant le transport. Les produits sont généralement livrés dans des conteneurs de taille standard (par exemple, 5 kg par caisse) ou selon les exigences du client, ce qui garantit une livraison sûre et fiable.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment des cibles de pulvérisation cathodique en zirconium tungstène (Zr/W) ?
R : Les industries telles que la fabrication de semi-conducteurs, la technologie d'affichage et la production de revêtements optiques utilisent fréquemment ces cibles pour leur haute performance et leur fiabilité.

Q : Comment la pureté ≥99% de la cible de pulvérisation est-elle maintenue ?
R : Des mesures strictes de contrôle de la qualité et des processus de fabrication avancés sont utilisés pour garantir que chaque cible répond constamment aux normes de pureté élevées requises pour les applications de pulvérisation de précision.

Q : La cible de pulvérisation Zirconium Tungstène peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière de conception et de processus industriel.

Q : Quelles sont les options de collage disponibles pour cette cible de pulvérisation ?
R : Les cibles sont conçues avec des options de collage qui incluent l'indium et l'élastomère, offrant une flexibilité pour divers processus d'assemblage et d'intégration.

Q : Quelles sont les méthodes de pulvérisation compatibles avec cette cible ?
R : Cette cible est conçue pour prendre en charge une gamme de techniques avancées de dépôt par pulvérisation, ce qui la rend adaptée aux systèmes de pulvérisation RF et DC dans les applications de haute précision.