Arrêté (Arrêté) ST0126 Cible de pulvérisation cathodique zirconium-cuivre (Zr/Cu)

Cible de pulvérisation cathodique en zirconium-cuivre (Zr/Cu) Description

La cible de pulvérisation cathodique en zirconium-cuivre (Zr/Cu) est produite dans le souci de maintenir un niveau de pureté élevé (≥99%) et d'offrir des formes polyvalentes et personnalisées. Développée à l'aide de procédés de fabrication raffinés, cette cible garantit des performances constantes, essentielles pour un dépôt fiable de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et les traitements de surface avancés. Sa conception robuste permet de l'intégrer dans des systèmes de pulvérisation de haute technologie, garantissant un transfert optimal du matériau et la formation d'un film uniforme pendant le processus de dépôt.

Applications des cibles de pulvérisation de zirconium-cuivre (Zr/Cu)

- Microélectronique : Idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Fournit des couches uniformes pour les écrans, les capteurs et d'autres composants optiques de précision.
- Énergie solaire : Utilisé dans la production de cellules photovoltaïques à haut rendement.
- Recherche et développement : Parfait pour les installations expérimentales et le prototypage dans la recherche sur les matériaux avancés.

Conditionnement des cibles de pulvérisation cathodique en zirconium-cuivre (Zr/Cu)

Nos cibles de pulvérisation cathodique en zirconium-cuivre (Zr/Cu) sont soigneusement emballées pour préserver l'intégrité du produit pendant le stockage et le transport.
- Des options d'emballage personnalisées sont disponibles en fonction des spécifications du client.
- L'emballage standard comprend des conteneurs sécurisés et antistatiques pour les disques individuels ou les commandes en vrac.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un bloc de matériau utilisé dans le processus de pulvérisation pour déposer des couches minces sur des substrats dans les secteurs de la microélectronique, de l'optique et d'autres industries.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation Zr/Cu ?
R : Les cibles de pulvérisation Zr/Cu sont couramment utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques, la production de cellules solaires et les applications de recherche.

Q : Comment la composition de la cible affecte-t-elle les performances de pulvérisation ?
R : La composition détermine la pureté et la consistance du film déposé, ce qui a un impact direct sur les propriétés électriques, optiques et mécaniques du produit final.

Q : La cible peut-elle être fabriquée sur mesure à des dimensions ou formes spécifiques ?
R : Oui, la cible de pulvérisation cathodique en zirconium-cuivre (Zr/Cu) est disponible sous forme de disques ou de formes personnalisées pour répondre aux diverses exigences des applications.

Q : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité mises en œuvre lors de la fabrication ?
R : Nos produits sont soumis à des tests rigoureux de contrôle de la qualité, y compris la vérification de la pureté et de la précision des dimensions, afin de garantir des performances et une fiabilité optimales pour chaque cible.