ST0118 Cible de pulvérisation cathodique vanadium-aluminium (V/Al)

Description de la cible de pulvérisation d'aluminium au vanadium (V/Al)

La cible de pulvérisation cathodique en aluminium au vanadium (V/Al) est conçue pour les processus avancés de dépôt de couches minces, offrant une uniformité et des performances exceptionnelles. Fabriquée avec une pureté élevée (≥99%), cette cible est idéale pour les semi-conducteurs, les écrans et les applications microélectroniques où la précision et la durabilité sont essentielles. Utilisant des techniques de production de pointe, notre cible garantit une contamination minimale et une excellente qualité de film, même dans des conditions industrielles rigoureuses.

Applications des cibles de pulvérisation cathodique vanadium-aluminium (V/Al)

- Dépôt de couches minces : Assure un revêtement uniforme et précis pour la fabrication de circuits intégrés.

- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit des couches fiables et à faible résistance pour les composants à haute performance.

- Revêtements optiques : Améliore la réflectivité et la durabilité dans les applications optiques avancées.

- Production de cellules solaires : Améliore l'efficacité grâce à l'application de films de haute qualité.

- Applications personnalisées : Répond à des exigences particulières pour des processus industriels uniques.

Emballage des cibles de pulvérisation du vanadium et de l'aluminium (V/Al)

Notre cible de pulvérisation d'aluminium au vanadium (V/Al) est soigneusement emballée pour préserver son intégrité pendant le stockage et le transport. Les options comprennent l'emballage sous vide avec des configurations de poids flexibles pour répondre aux commandes personnalisées.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est la composition de la cible de pulvérisation ?
R : La cible de pulvérisation est composée d'un alliage de vanadium et d'aluminium (V/Al) d'une pureté ≥99%.

Q : La cible peut-elle être fabriquée sur mesure ?
R : Oui, les formes peuvent être personnalisées en fonction de vos exigences spécifiques, y compris des disques standard ou d'autres formes sur mesure.

Q : Quel type de liaison est utilisé pour la cible de pulvérisation ?
R : La cible utilise une liaison à l'indium et à l'élastomère pour assurer sa stabilité pendant les processus de pulvérisation.

Q : Dans quelles applications la cible de pulvérisation en aluminium au vanadium peut-elle être utilisée ?
R : Elle est largement utilisée pour le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et d'autres processus industriels spécialisés.

Q : En quoi la grande pureté de la cible est-elle bénéfique pour ses performances ?
R : La haute pureté (≥99%) garantit une excellente qualité de film avec une contamination minimale, assurant des performances fiables et constantes dans les applications avancées.