ST0107 Cible de pulvérisation pour le nickel et le vanadium (Ni/V)

Description de la cible de pulvérisation de nickel vanadium (Ni/V)

La cible de pulvérisation de nickel vanadium (Ni/V) est conçue pour offrir d'excellentes performances dans les applications de dépôt physique en phase vapeur. Fabriquée en mettant l'accent sur une pureté élevée (≥99%), cette cible est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des exigences de fabrication spécifiques. Sa composition robuste et la précision de sa conception en font un choix approprié pour produire des couches minces uniformes sur des substrats dans des dispositifs microélectroniques et optiques avancés. Les performances fiables de cette cible de pulvérisation garantissent des taux de dépôt constants et des caractéristiques de film de haute qualité, même dans des environnements opérationnels difficiles.

Applications des cibles de pulvérisation Nickel Vanadium (Ni/V)

- Fabrication de dispositifs microélectroniques : Idéale pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Utilisé dans la production de revêtements réfléchissants et antireflets pour les lentilles et les miroirs.
- Technologies d'affichage : Employées dans le développement d'écrans à cristaux liquides (LCD) et d'autres écrans plats.
- Cellules solaires : Facilite le dépôt de couches conductrices et de couches barrières dans les applications photovoltaïques.
- Revêtements industriels de précision : Utilisés pour les revêtements de haute performance dans divers outils et composants industriels.

Emballage de cibles de pulvérisation de nickel vanadium (Ni/V)

Nos cibles de pulvérisation de nickel vanadium (Ni/V) sont manipulées avec le plus grand soin pendant le stockage et le transport afin de les maintenir dans un état impeccable. Les produits sont emballés dans des environnements propres et contrôlés afin de garantir une expédition sans contamination. Les options d'emballage disponibles comprennent des sacs scellés sous vide pour les disques ou des conteneurs conçus sur mesure pour répondre à des besoins spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau de haute pureté utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) pour déposer des films minces sur des substrats, ce qui est essentiel pour les semi-conducteurs, l'optique et les applications de revêtement.

Q : Comment la cible de pulvérisation Nickel Vanadium (Ni/V) est-elle fabriquée ?
R : Elle est fabriquée dans le cadre de contrôles de qualité rigoureux utilisant des techniques de fabrication avancées pour garantir une pureté et une cohérence élevées, avec des options pour des formes personnalisées telles que des disques ou des formats sur mesure.

Q : La cible peut-elle être personnalisée pour répondre à des exigences de dépôt spécifiques ?
R : Oui, nos cibles de pulvérisation de nickel vanadium (Ni/V) sont disponibles dans des tailles et des formes personnalisées pour répondre aux exigences uniques des différentes applications industrielles.

Q : Dans quelles industries cette cible de pulvérisation peut-elle être utilisée ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, le revêtement optique, la production de technologies d'affichage, la fabrication de cellules solaires et d'autres applications industrielles de précision.

Q : Comment la qualité de la cible de pulvérisation est-elle maintenue pendant le transport ?
R : Les cibles sont emballées dans des salles blanches à l'aide d'emballages scellés sous vide ou conçus sur mesure afin d'éviter toute contamination et de garantir qu'elles arrivent dans des conditions optimales.