ST0104 Cible de pulvérisation cathodique nickel-manganèse (Ni/Mn)

Cible de pulvérisation de nickel-manganèse (Ni/Mn) Description

La cible de pulvérisation de nickel et de manganèse (Ni/Mn) est un produit de précision utilisé pour le dépôt de couches minces de haute qualité. Fabriquée pour atteindre une pureté de ≥99%, cette cible de pulvérisation est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des applications spécialisées. Sa composition unique de nickel et de manganèse lui confère des propriétés physiques et chimiques avantageuses, ce qui la rend adaptée à une variété de processus industriels avancés. En s'appuyant sur des techniques de production de pointe, Stanford Advanced Materials garantit des performances et une fiabilité constantes pour les applications exigeantes.

Applications des cibles de pulvérisation de nickel et de manganèse (Ni/Mn)

- Fabrication de semi-conducteurs : Utilisée dans la production de circuits intégrés et de dispositifs microélectroniques.
- Revêtements optiques : Appliqués pour le dépôt de films qui améliorent les performances optiques des lentilles et des miroirs.
- Technologies d'affichage : Utilisés pour la formation de couches conductrices et protectrices dans les panneaux d'affichage.
- Revêtements industriels : Idéal pour les applications nécessitant des couches minces durables et résistantes à la corrosion dans divers secteurs.

Emballage de cibles de pulvérisation de nickel-manganèse (Ni/Mn)

Nos cibles de pulvérisation de nickel-manganèse (Ni/Mn) sont emballées selon des mesures strictes de contrôle de la qualité afin de garantir la préservation de leurs propriétés pendant le transport. Les produits sont scellés sous vide et emballés de manière sûre afin de préserver leur intégrité et leurs performances, chaque unité étant clairement identifiée à des fins de traçabilité.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment la cible de pulvérisation cathodique nickel-manganèse (Ni/Mn) ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, les applications de revêtement optique, la technologie d'affichage et divers processus de revêtement industriel.

Q : Les formes des cibles peuvent-elles être personnalisées en fonction d'exigences spécifiques ?
R : Oui, la cible de pulvérisation de nickel et de manganèse (Ni/Mn) est disponible sous forme de disque standard et peut également être fabriquée sur mesure pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.

Q : Quels sont les avantages de la composition Ni/Mn pour le dépôt de couches minces ?
R : La composition Ni/Mn offre des propriétés physiques et chimiques uniques qui améliorent l'adhérence, la durabilité et les performances globales du film pendant le processus de pulvérisation.

Q : Quel est le niveau de pureté de ce produit ?
R : Le produit est fabriqué à un niveau de pureté de ≥99%, ce qui garantit des performances élevées et une grande régularité dans les applications exigeantes.

Q : Comment le produit est-il emballé pour garantir sa qualité pendant l'expédition ?
R : Les cibles sont scellées sous vide et emballées de manière sûre afin de préserver leur qualité et leurs propriétés, ce qui les rend fiables à l'arrivée pour les processus industriels sensibles.