ST0102 Cible de pulvérisation cathodique nickel-chrome (Ni/Cr)

Description de la cible de pulvérisation de nickel chrome (Ni/Cr)

La cible de pulvérisation de nickel-chrome (Ni/Cr) est conçue pour assurer la cohérence et la performance des applications de pulvérisation avancées. Fabriquée avec des techniques de précision pour atteindre une pureté élevée (≥99%) et une composition uniforme, cette cible est conçue pour offrir une qualité de dépôt supérieure. Offrant des formes personnalisables, y compris des disques standard et des formes sur mesure, elle répond aux exigences spécifiques des clients tout en garantissant des performances fiables dans des conditions d'exploitation variées.

Applications des cibles de pulvérisation de nickel-chrome (Ni/Cr)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour la microélectronique et la fabrication de semi-conducteurs.
- Revêtements de surface : Offre une résistance à l'usure et à la corrosion pour les applications d'ingénierie avancée.
- Recherche avancée : Utilisé en R&D pour la science des matériaux et les nouvelles technologies de revêtement.
- Traitement industriel : Pour diverses applications industrielles nécessitant des cibles de pulvérisation homogènes et de grande pureté.

Emballage des cibles de pulvérisation du nickel chrome (Ni/Cr)

Nos cibles de pulvérisation de nickel-chrome sont emballées de manière sécurisée afin de préserver l'intégrité du produit pendant le transport. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant une protection optimale et une facilité de manipulation tout au long du stockage et de l'expédition.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation cathodique nickel-chrome ?
R : Elles sont largement utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, le dépôt de couches minces et les revêtements de surface.

Q : Comment fonctionne le processus de pulvérisation cathodique Ni/Cr ?
R : La cible est bombardée par des ions dans un environnement sous vide, ce qui provoque l'éjection de matériaux et leur dépôt sur des substrats pour former des couches minces.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, en plus des disques standard, des formes personnalisées peuvent être produites selon les exigences spécifiques du client.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir l'uniformité et la pureté de la cible ?
R : Des matériaux de haute pureté (≥99%) et des contrôles de fabrication rigoureux sont utilisés pour maintenir une composition uniforme et des performances supérieures.

Q : Comment les cibles doivent-elles être stockées pour conserver leur qualité ?
R : Elles doivent être conservées dans un environnement propre et sec, avec un emballage protecteur pour éviter toute contamination et tout dommage physique.