ST0095 Cible de pulvérisation cathodique manganèse-cuivre (Mn/Cu)

Cible de pulvérisation cathodique manganèse-cuivre (Mn/Cu) Description

La cible de pulvérisation de manganèse-cuivre (Mn/Cu) est conçue pour une efficacité élevée dans les processus de dépôt par pulvérisation. Fabriquée pour atteindre une excellente pureté (≥99%), cette cible est idéale pour créer des films minces uniformes dans les applications de semi-conducteurs, d'affichage et de microélectronique. Ses formes personnalisables, y compris les disques et les conceptions sur mesure, la rendent polyvalente pour diverses exigences industrielles. S'appuyant sur des techniques de fabrication avancées, notre produit garantit des performances fiables et une contamination minimale pendant le dépôt.

Applications des cibles de pulvérisation de manganèse et de cuivre (Mn/Cu)

- Dépôt de couches minces : Essentiel pour la fabrication de revêtements uniformes dans la fabrication de semi-conducteurs et d'écrans.
- Microélectronique : Utilisée dans la production de circuits intégrés et d'autres composants électroniques de haute précision.
- Revêtement de surface : Permet d'obtenir une excellente adhérence et uniformité dans les revêtements décoratifs et protecteurs.
- Recherche et développement : Idéal pour les laboratoires spécialisés dans les sciences des matériaux et les alliages avancés.

Emballage des cibles de pulvérisation du manganèse et du cuivre (Mn/Cu)

Nos cibles de pulvérisation cathodique en manganèse-cuivre sont manipulées avec soin pour s'assurer qu'elles restent en parfait état tout au long de leur voyage.
Options d'emballage : Emballage sous vide et conteneurs personnalisés disponibles selon les besoins du client.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale de la cible de pulvérisation cathodique manganèse-cuivre (Mn/Cu) ?
R : Elle est principalement utilisée pour le dépôt de couches minces dans les industries des semi-conducteurs, des écrans et de la microélectronique.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisé pour répondre aux besoins d'une application spécifique.

Q : Qu'est-ce qui garantit la haute performance de cette cible de pulvérisation lors des processus de dépôt ?
R : Sa grande pureté (≥99%) et sa conception uniforme garantissent une contamination minimale et une qualité de film constante.

Q : Est-il possible de modifier la méthode de collage de la cible ?
R : La cible utilise généralement des liaisons à l'indium et à l'élastomère, mais des options de liaison personnalisées peuvent être disponibles sur demande.

Q : Comment la cible de pulvérisation doit-elle être emballée pour conserver ses performances ?
R : Les cibles sont scellées sous vide dans un emballage spécialisé conçu pour les protéger des facteurs environnementaux et garantir leur qualité pendant le transport.