ST0091 Cible de pulvérisation cathodique fer-aluminium (Fe/Al)

Description de la cible de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al)

La cible de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al) est conçue pour des processus de pulvérisation haute performance dans diverses applications avancées. Fabriquée avec un niveau de pureté rigoureux de ≥99%, cette cible est disponible sous forme de disque ou peut être fabriquée sur mesure en fonction des exigences du projet. Bien que certains paramètres tels que le point de fusion et la densité ne soient pas spécifiés, sa conception est axée sur une performance de pulvérisation stable et un dépôt de couches minces de haute qualité. L'incorporation d'indium et de liaisons élastomères garantit une durabilité et une performance fiable, même dans des conditions de traitement rigoureuses.

Applications des cibles de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les applications de revêtement en microélectronique et en affichage.
- Processus de pulvérisation : Utilisés dans la fabrication de circuits intégrés et les traitements de surface.
- Fabrication de semi-conducteurs : Fournit l'homogénéité des matériaux nécessaire à la production fiable de dispositifs à semi-conducteurs.
- Recherche et développement : Ce matériau polyvalent est utilisé dans le cadre de la recherche et du développement pour de nouvelles applications de couches minces.

Emballage des cibles de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al)

Notre cible de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al) est emballée avec soin pour garantir son intégrité pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques des clients, garantissant que le produit reste non contaminé et prêt à être utilisé immédiatement à la livraison.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau utilisé dans les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) où des particules énergétiques éjectent des atomes de la cible pour former un film mince sur un substrat.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation sont-elles couramment utilisées ?
R : Les cibles de pulvérisation sont essentielles dans des industries telles que la microélectronique, la fabrication de semi-conducteurs, l'optique et l'ingénierie de surface pour le dépôt de couches minces de haute qualité.

Q : Comment la cible de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al) est-elle fabriquée ?
R : Cette cible est fabriquée avec une composition Fe/Al de haute pureté (≥99%) et peut être produite sous forme de disques standard ou de formats personnalisés pour garantir des performances optimales dans les applications de pulvérisation.

Q : Quelles sont les options de personnalisation disponibles ?
R : Le produit est disponible sous forme de disques ou peut être fabriqué sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques de taille et de forme selon la demande du client.

Q : Comment la cible de pulvérisation fer-aluminium (Fe/Al) doit-elle être stockée ?
R : Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement propre et sec, idéalement dans son emballage d'origine, afin de préserver son intégrité et d'éviter toute contamination avant utilisation.