ST0075 Cible de pulvérisation cathodique chrome-titane (Cr/Ti)

Cible de pulvérisation chrome-titane (Cr/Ti) Description

La cible de pulvérisation cathodique chrome-titane (Cr/Ti) a été méticuleusement mise au point pour soutenir les processus de dépôt par pulvérisation cathodique de haute précision. Avec une composition de Cr/Ti et une pureté de ≥99%, elle est conçue pour des applications exigeant des performances et une fiabilité constantes. La cible est disponible sous forme de disques bien définis ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à des besoins de fabrication spécifiques. Sa formulation robuste garantit un transfert de matière stable et uniforme au cours du processus de pulvérisation, ce qui en fait un élément essentiel dans les applications industrielles haut de gamme.

Applications des cibles de pulvérisation chrome-titane (Cr/Ti)

- Dépôt de couches minces : Permet la création de films uniformes essentiels pour les dispositifs à semi-conducteurs et les revêtements optiques.
- Revêtements de surface : Fournit des revêtements de haute qualité pour la résistance à l'usure et la protection contre la corrosion des équipements industriels.
- Applications électroniques : Utilisées dans la fabrication de composants électroniques pour lesquels la précision et les performances sont essentielles.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales nécessitant des cibles de pulvérisation fiables pour l'innovation des matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation chrome-titane (Cr/Ti)

Notre cible de pulvérisation chrome-titane (Cr/Ti) est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa qualité et son intégrité pendant le transport. Les solutions d'emballage standard comprennent des sachets scellés sous vide et des conteneurs personnalisés adaptés aux besoins spécifiques des clients, garantissant la protection du produit et la sécurité de la livraison.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation ?
R : Une cible de pulvérisation est un matériau solide utilisé pour déposer des couches minces sur des substrats par un processus de dépôt physique en phase vapeur.

Q : Dans quelles industries les cibles de pulvérisation sont-elles principalement utilisées ?
R : Les cibles de pulvérisation sont couramment utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et diverses applications électroniques.

Q : Les tailles des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les tailles disponibles peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de différentes applications.

Q : Que signifie une pureté de ≥99% pour ce produit ?
R : Une pureté de ≥99% garantit que la cible contient un minimum d'impuretés, ce qui est essentiel pour obtenir un dépôt de film uniforme et de haute qualité.

Q : Quels types de liants sont utilisés dans ce produit ?
R : Le produit spécifie l'utilisation d'un collage à l'indium et à l'élastomère, qui offre une adhérence et des performances fiables pendant le processus de pulvérisation.