ST0064 Cible de pulvérisation cathodique aluminium-nickel (Al/Ni)

Description de la cible de pulvérisation aluminium-nickel (Al/Ni)

La cible de pulvérisation aluminium-nickel (Al/Ni) est conçue pour offrir des performances exceptionnelles pour les applications de pulvérisation dans diverses industries de haute technologie. Fabriquée avec un souci de pureté (≥99%) et de précision, cette cible est idéale pour former des revêtements uniformes sur des substrats où la fiabilité et l'uniformité sont primordiales. Ses formes personnalisables, y compris les disques standard ou les formes sur mesure, répondent à diverses exigences de production. L'incorporation d'agents de liaison spécialisés tels que l'indium et l'élastomère garantit que la cible conserve son intégrité structurelle pendant le processus de pulvérisation.

Applications des cibles de pulvérisation aluminium-nickel (Al/Ni)

- Dépôt de couches minces : Largement utilisé dans les industries des semi-conducteurs et des écrans pour créer des films minces uniformes et précis.
- Revêtement de surface : Essentiel dans les processus qui nécessitent des revêtements de haute qualité et résistants à la corrosion pour divers substrats.
- Électronique : Appliqué à la fabrication de composants pour lesquels le contrôle de l'épaisseur et de la conductivité des films est essentiel.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans les laboratoires de science des matériaux et de nanotechnologie qui recherchent des cibles de pulvérisation de haute pureté.

Emballage des cibles de pulvérisation aluminium-nickel (Al/Ni)

Nos cibles de pulvérisation aluminium-nickel (Al/Ni) sont manipulées avec soin afin de préserver leur pureté et leur précision. Chaque cible est emballée en toute sécurité dans des matériaux antistatiques et résistants à l'humidité. Les options d'emballage sont personnalisées pour répondre aux besoins spécifiques des différents environnements d'expédition et de stockage, garantissant ainsi le maintien de l'intégrité du produit depuis nos installations jusqu'à votre ligne de production.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement les cibles de pulvérisation cathodique aluminium-nickel (Al/Ni) ?
R : Elles sont principalement utilisées dans les industries des semi-conducteurs, des écrans et de l'électronique, ainsi que dans les laboratoires de recherche et développement qui se concentrent sur les applications des matériaux avancés.

Q : En quoi la grande pureté de la cible est-elle bénéfique pour le processus de pulvérisation ?
R : La haute pureté garantit une contamination minimale, ce qui entraîne un dépôt de film plus uniforme et une amélioration des performances du produit revêtu final.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, nos cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences de forme spécifiques et s'adapter à divers systèmes de pulvérisation.

Q : Quel rôle jouent les agents de liaison, tels que l'indium et l'élastomère, dans la cible ?
R : Ils contribuent à maintenir l'intégrité structurelle et la connectivité de la cible au cours du processus de pulvérisation, ce qui garantit des performances constantes dans des conditions de forte sollicitation.

Q : Y a-t-il des conditions de stockage spécifiques recommandées pour ces cibles de pulvérisation ?
R : Il est recommandé de stocker les cibles dans un environnement contrôlé et sec et de les manipuler avec des précautions antistatiques afin de préserver leur qualité et leurs performances.