ST0063 Cible de pulvérisation cathodique aluminium-magnésium (Al/Mg)

Description de la cible de pulvérisation aluminium-magnésium (Al/Mg)

La cible de pulvérisation d'aluminium-magnésium (Al/Mg) est conçue avec des matériaux de qualité supérieure et des techniques de fabrication précises pour offrir des performances exceptionnelles dans les processus de dépôt par pulvérisation. Avec une composition Al/Mg et une pureté de ≥99%, cette cible garantit une contamination minimale et une excellente qualité de film. Conçue sous forme de disques standard ou de formes sur mesure, elle convient parfaitement aux applications spécialisées nécessitant une grande fiabilité et un rendement constant.

Cette cible de pulvérisation est optimisée pour une durabilité à long terme dans les paramètres de dépôt sous vide, fournissant des revêtements de couches minces uniformes et contrôlées, idéales pour les dispositifs à semi-conducteurs, les revêtements optiques et les composants électroniques avancés.

Applications des cibles de pulvérisation d'aluminium-magnésium (Al/Mg)

- Dépôt sous vide : Essentiel pour la fabrication de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs, d'écrans et d'appareils optiques.
- Électronique : Utilisé pour produire des couches conductrices, isolantes et protectrices dans les circuits intégrés et les composants électroniques.
- Photovoltaïque : soutien à la production de cellules solaires en couches minces nécessitant un revêtement uniforme pour une efficacité accrue.
- Recherche et développement : Idéal pour les installations expérimentales dans le domaine de la science des matériaux où la précision du dépôt de film est essentielle.

Emballage des cibles de pulvérisation d'aluminium-magnésium (Al/Mg)

Nos cibles de pulvérisation d'aluminium-magnésium (Al/Mg) sont emballées avec soin pour garantir qu'elles restent en parfait état pendant le stockage et le transport.
- Emballage sous vide pour éviter toute contamination
- Des options d'emballage personnalisées sont disponibles en fonction des besoins du client.

Questions fréquemment posées

Q : Qu'est-ce qu'une cible de pulvérisation et comment est-elle utilisée ?
R : Une cible de pulvérisation est un composant essentiel dans les processus de dépôt physique en phase vapeur. Elle sert de matériau source qui est bombardé avec des ions pour libérer des atomes qui sont ensuite déposés sous forme de films minces sur des substrats.

Q : Quelles sont les industries qui bénéficient le plus de l'utilisation de la cible de pulvérisation aluminium-magnésium (Al/Mg) ?
R : Cette cible de pulvérisation est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, la production de panneaux d'affichage, la fabrication de cellules photovoltaïques et d'autres applications électroniques avancées.

Q : Comment la composition Al/Mg améliore-t-elle les performances de la cible de pulvérisation ?
R : La combinaison de l'aluminium et du magnésium offre des propriétés mécaniques améliorées, une excellente conductivité électrique et une meilleure résistance à l'oxydation, ce qui garantit un dépôt de couches minces durable et de haute qualité.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, le produit est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisé pour répondre aux besoins spécifiques du client.

Q : Pourquoi une pureté élevée (≥99%) est-elle importante pour les cibles de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée minimise le risque de contamination pendant le processus de dépôt, ce qui est crucial pour obtenir des propriétés de film constantes et garantir la performance du produit final.