ST0057 Cible de pulvérisation d'yttrium (Y)

Description de la cible de pulvérisation d'yttrium (Y)

La cible de pulvérisation d'yttrium (Y) est spécialement conçue pour les applications de dépôt sous vide de haute précision. Fabriquée pour atteindre une pureté de ≥99%, cette cible est disponible en disques ou peut être fabriquée sur mesure pour répondre à vos besoins de production. Elle est compatible avec les techniques de pulvérisation RF et DC, ce qui garantit un dépôt de film fiable et cohérent. Avec ses excellentes propriétés thermiques et physiques, cette cible est un choix idéal pour les industries nécessitant des matériaux de haute performance.

Applications des cibles de pulvérisation d'yttrium (Y)

- Fabrication électronique: Essentielle pour la production de couches minces dans les appareils électroniques.

- Fabrication de dispositifs semi-conducteurs: Permet un dépôt de haute qualité pour les circuits avancés.

- Revêtements optiques: Idéal pour appliquer des revêtements uniformes sur divers composants optiques.

- Recherche sur les matériaux avancés: Soutient les expériences et les développements innovants dans le domaine des sciences des matériaux.

Emballage des cibles de pulvérisation d'yttrium (Y)

Nos cibles de pulvérisation d'yttrium (Y) sont soigneusement emballées pour préserver leur intégrité et leurs performances. Les produits sont scellés sous vide et emballés conformément aux spécifications du client, ce qui garantit une protection optimale pendant le stockage et le transport.

Questions fréquemment posées

Q : Quel est l'avantage d'utiliser une cible de pulvérisation d'yttrium (Y) dans les processus de dépôt ?
R : Elle offre une grande pureté et une excellente cohérence dans le dépôt, garantissant une uniformité et une performance supérieures du film dans diverses applications.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment les cibles de pulvérisation d'yttrium (Y) ?
R : Les industries telles que la fabrication électronique, la fabrication de semi-conducteurs, les revêtements optiques et la recherche sur les matériaux avancés bénéficient de l'utilisation de cette cible de pulvérisation.

Q : La forme de la cible de pulvérisation d'yttrium (Y) peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, les cibles sont disponibles sous forme de disque standard ou peuvent être personnalisées pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quels sont les avantages de cette cible pour les techniques de pulvérisation RF et DC ?
R : La cible de pulvérisation d'yttrium (Y) est optimisée pour la pulvérisation RF et DC, offrant une flexibilité et des performances constantes dans différentes configurations de dépôt.

Q : Pourquoi est-il important de maintenir une pureté ≥99% pour les cibles de pulvérisation ?
R : Une pureté élevée minimise la contamination pendant le dépôt, ce qui est crucial pour obtenir des films fiables et de haute qualité pour des applications critiques.