ST0054 Cible de pulvérisation de tungstène (W)

Description de la cible de pulvérisation en tungstène (W)

La cible de pulvérisation en tungstène (W) est fabriquée à partir de tungstène (W) de haute pureté en utilisant des techniques de fabrication de précision pour garantir une qualité et des performances exceptionnelles. Conçue pour des applications de pulvérisation avancées, cette cible présente une excellente stabilité thermique et une grande durabilité, ce qui en fait le choix idéal pour le dépôt de couches minces, la fabrication de semi-conducteurs et les processus de revêtement industriels. Ses propriétés physiques robustes et ses formes personnalisables garantissent des performances fiables, même dans les environnements à haute puissance les plus exigeants.

Applications des cibles de pulvérisation de tungstène (W)

- Fabrication de semi-conducteurs : Essentiel pour la fabrication de circuits intégrés et de dispositifs microélectroniques.
- Dépôt de couches minces : Permet de réaliser des revêtements de haute qualité pour les composants optiques et électroniques.
- Revêtements industriels : Ils fournissent des couches durables et uniformes pour des applications résistantes à l'usure et à la corrosion.
- Recherche et développement : Largement utilisé dans les études de science des matériaux et les techniques expérimentales de pulvérisation.

Emballage des cibles de pulvérisation du tungstène (W)

Notre cible de pulvérisation en tungstène (W) est emballée avec soin afin de préserver sa grande pureté et son intégrité structurelle tout au long du stockage et du transport. Les options d'emballage comprennent des disques scellés sous vide ou des configurations sur mesure, garantissant une livraison sûre à nos clients.

Questions fréquemment posées

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation du tungstène est-elle maintenue pendant la fabrication ?
R : Le tungstène est traité dans des environnements contrôlés en utilisant des matières premières de haute pureté et des techniques de fabrication de précision, garantissant un niveau de pureté de ≥99%.

Q : Les formes des cibles de pulvérisation peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, outre les disques standard, des formes sur mesure sont disponibles pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour cette cible ?
R : La cible de pulvérisation en tungstène (W) est optimisée pour les systèmes de pulvérisation à courant continu, qui sont couramment utilisés dans les processus de dépôt industriels.

Q : Comment le point de fusion élevé du tungstène profite-t-il aux applications de pulvérisation ?
R : Le point de fusion exceptionnellement élevé (3422°C) garantit que le tungstène conserve son intégrité et ses performances lors des opérations de pulvérisation à haute température.

Q : Quelles sont les précautions à prendre lors de la manipulation des cibles de pulvérisation en tungstène ?
R : Il est recommandé de manipuler les cibles avec des gants propres et de les stocker dans un environnement contrôlé pour éviter toute contamination et tout dommage physique.