ST0050 Cible de pulvérisation de terbium (Tb)

Description de la cible de pulvérisation de terbium (Tb)

La cible de pulvérisation de terbium (Tb) est un matériau de première qualité préparé pour les processus de dépôt de couches minces de pointe. Fabriquée à l'aide de techniques avancées pour garantir une pureté et une cohérence élevées, cette cible offre des performances exceptionnelles dans diverses applications, produisant des revêtements uniformes et fiables. Ses propriétés physiques supérieures en font un choix optimal pour les industries exigeant des résultats de pulvérisation précis et fiables.

Applications des cibles de pulvérisation de terbium (Tb)

- Microélectronique : Essentielle pour la fabrication de couches minces précises dans les technologies d'affichage et les dispositifs à semi-conducteurs.
- Dispositifs magnéto-optiques : Utilisés dans la production de composants optiques et magnétiques avancés.
- Revêtements en couches minces : Idéal pour les applications nécessitant une grande uniformité et d'excellentes propriétés d'adhésion.
- Recherche et développement : Convient aux expériences de pointe dans les domaines de la science des matériaux et de la nanotechnologie.
- Revêtements industriels : Utilisés pour créer des revêtements durables et performants pour des équipements spécialisés.

Emballage des cibles de pulvérisation de terbium (Tb)

Notre cible de pulvérisation de terbium (Tb) est emballée de manière sécurisée afin de préserver sa grande pureté et son intégrité structurelle tout au long du stockage et du transport.
Emballage scellé sous vide : Généralement disponible dans des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de processus spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les industries qui utilisent généralement des cibles de pulvérisation de terbium ?
R : Elles sont largement utilisées dans les secteurs des semi-conducteurs, de la microélectronique et des dispositifs magnéto-optiques pour le dépôt de couches minces de haute précision.

Q : Pourquoi la pulvérisation RF est-elle recommandée pour cette cible ?
R : La pulvérisation RF fournit un environnement plasma stable qui garantit un dépôt de film uniforme et préserve l'intégrité des cibles de haute pureté comme le terbium.

Q : Comment la pureté de la cible de pulvérisation du Terbium affecte-t-elle les performances ?
R : Une pureté de ≥99% minimise les impuretés qui pourraient autrement nuire à l'uniformité du film et à la performance globale de l'appareil, garantissant ainsi des résultats fiables.

Q : La taille de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, la cible de pulvérisation de Terbium (Tb) est disponible dans une variété de tailles personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques des applications et des systèmes de dépôt.

Q : Quelles sont les mesures prises lors de l'emballage pour protéger la cible de pulvérisation ?
R : La cible est scellée sous vide dans un emballage sécurisé pour éviter l'oxydation et la contamination, ce qui garantit le maintien de sa grande pureté jusqu'à son utilisation.