ST0042 Cible de pulvérisation du sélénium (Se)

Description de la cible de pulvérisation au sélénium (Se)

La cible de pulvérisation de sélénium (Se) est conçue pour des applications de pulvérisation avancées avec des performances précises et une grande fiabilité. Fabriquée avec un niveau de pureté de ≥99%, cette cible garantit un dépôt uniforme de couches minces et un excellent comportement de pulvérisation. Elle est utilisée de manière optimale dans les processus de revêtement spécialisés pour la fabrication de semi-conducteurs, de composants optiques et de divers appareils électroniques. Grâce à ses formes personnalisables, y compris des disques ou des formes sur mesure, cette cible répond aux exigences d'équipement spécifiques tout en maintenant l'intégrité du produit et la qualité des performances.

Applications des cibles de pulvérisation de sélénium (Se)

- Dépôt de couches minces : Idéal pour les revêtements semi-conducteurs et optiques dans l'électronique, les cellules solaires et les technologies d'affichage.
- Recherche et développement : Largement utilisée en laboratoire pour explorer et affiner de nouvelles techniques de pulvérisation.
- Dispositifs médicaux : Appliqués aux modifications de surface pour améliorer la biocompatibilité des équipements médicaux avancés.
- Fabrication industrielle : Permet d'obtenir des revêtements de haute précision pour divers secteurs industriels exigeant des normes de qualité strictes.

Emballage des cibles de pulvérisation de sélénium (Se)

Notre cible de pulvérisation de sélénium (Se) est manipulée avec le plus grand soin afin de préserver sa grande pureté et ses caractéristiques de performance. La cible est emballée sous vide pour éviter toute contamination pendant le stockage et le transport. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles sur demande pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quelles sont les applications industrielles typiques des cibles de pulvérisation de sélénium (Se) ?
R : Elles sont principalement utilisées pour le dépôt de couches minces pour les semi-conducteurs, les revêtements optiques et la fabrication électronique de pointe.

Q : Comment garantissez-vous un niveau de pureté de ≥99% dans la cible de pulvérisation ?
R : Nous atteignons cette pureté élevée en utilisant des matières premières de qualité supérieure et en mettant en œuvre des mesures strictes de contrôle de la qualité tout au long du processus de fabrication.

Q : La forme de la cible de pulvérisation de sélénium (Se) peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, nos cibles sont disponibles sous forme de disques standard ou peuvent être fabriquées sur mesure pour répondre à des exigences spécifiques en matière d'équipement et d'application.

Q : La cible de pulvérisation de sélénium (Se) est-elle compatible avec les équipements de pulvérisation standard ?
R : Absolument, elle est conçue pour offrir des performances fiables dans une large gamme de systèmes de pulvérisation conventionnels.

Q : Quelles sont les mesures prises pour garantir que la cible reste exempte de toute contamination pendant l'emballage et l'expédition ?
R : La cible est scellée sous vide dans un emballage spécialisé conçu pour la protéger contre la contamination et préserver ses caractéristiques de haute qualité pendant le stockage et le transport.