ST0039 Cible de pulvérisation du ruthénium (Ru)

Description de la cible de pulvérisation de ruthénium (Ru)

La cible de pulvérisation de ruthénium (Ru) est un matériau de haute performance conçu pour les applications de pulvérisation de pointe. Produite à l'aide de techniques de fabrication avancées, cette cible garantit un dépôt de film uniforme et une excellente stabilité opérationnelle pendant le processus de pulvérisation. Sa grande pureté et ses propriétés physiques adaptées en font la solution idéale pour obtenir des revêtements en couches minces de qualité supérieure dans les domaines de la microélectronique, des dispositifs optiques et d'autres applications de précision. Avec une résistance exceptionnelle à l'usure et une grande stabilité thermique, il répond aux exigences rigoureuses des environnements modernes de fabrication et de recherche.

Applications des cibles de pulvérisation de ruthénium (Ru)

- Microélectronique : Idéale pour déposer des couches minces uniformes et conductrices pour les circuits intégrés et les dispositifs à semi-conducteurs.
- Revêtements optiques : Utilisés pour améliorer les propriétés réfléchissantes et antireflets des composants optiques de haute performance.
- Revêtements décoratifs : Ils permettent d'obtenir des finitions durables et esthétiquement attrayantes sur divers substrats.
- Cellules solaires : Utilisées dans des systèmes de revêtement multicouches pour améliorer l'efficacité et la longévité.

Emballage des cibles de pulvérisation du ruthénium (Ru)

Notre cible de pulvérisation de ruthénium (Ru) est emballée de manière sécurisée afin de préserver son intégrité et ses performances.
Emballage scellé sous vide : Des solutions d'emballage personnalisées sont proposées pour répondre aux besoins spécifiques des clients.

Questions fréquemment posées

Q : Quels sont les avantages de l'utilisation d'une cible de pulvérisation en ruthénium (Ru) ?
R : Les cibles en ruthénium offrent une excellente uniformité de film, une grande pureté et une stabilité supérieure, ce qui les rend idéales pour le dépôt de films minces de haute précision dans des applications technologiques avancées.

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour cette cible ?
R : La cible est optimisée pour la pulvérisation à courant continu, ce qui garantit des performances constantes et une formation de film fiable.

Q : Comment la cible de pulvérisation du ruthénium (Ru) est-elle fabriquée ?
R : Elle est produite à l'aide de techniques de fabrication avancées qui garantissent une pureté et une précision élevées, adaptées aux exigences rigoureuses des processus de pulvérisation modernes.

Q : Des formes et des tailles personnalisées sont-elles disponibles pour ce produit ?
R : Oui, en plus des disques standard, des formes et des tailles sur mesure peuvent être produites pour répondre aux exigences d'applications spécifiques.

Q : Quel est l'impact de la haute pureté de la cible sur ses performances de pulvérisation ?
R : La pureté élevée (≥99%) minimise la contamination pendant le dépôt, ce qui permet d'obtenir un film de qualité supérieure, une meilleure adhérence et des propriétés électriques constantes dans le revêtement final.