Arrêté (Arrêté) ST0019 Cible de pulvérisation d'Hafnium (Hf)

Description de la cible de pulvérisation d'Hafnium (Hf)

La cible de pulvérisation d'hafnium (Hf) est conçue pour les applications exigeantes de pulvérisation et de dépôt de couches minces. Fabriquée en hafnium de haute pureté, elle garantit d'excellentes performances dans les processus de revêtement de précision, assurant une qualité de film uniforme et une fiabilité exceptionnelle dans les environnements difficiles. Idéale pour les revêtements de semi-conducteurs, optiques et aérospatiaux, cette cible bénéficie de la résistance à la corrosion inhérente à l'hafnium et de son point de fusion élevé.

Applications des cibles de pulvérisation d'hafnium (Hf)

- Dépôt de couches minces : Parfait pour créer des revêtements uniformes et de haute performance dans les appareils électroniques et optiques.
- Fabrication de semi-conducteurs : Instrument pour la fabrication de composants nécessitant une grande précision et des propriétés matérielles constantes.
- Aérospatiale et défense : Utilisé pour les couches protectrices et les revêtements fonctionnels qui nécessitent une durabilité et une résistance aux températures élevées.
- Recherche scientifique : Idéal pour les installations expérimentales impliquant des techniques de pulvérisation avancées.

Emballage des cibles de pulvérisation du Hafnium (Hf)

Nos cibles de pulvérisation d'Hafnium (Hf) sont emballées de manière sécurisée afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique. Chaque cible est généralement scellée sous vide et enveloppée dans un emballage protecteur, ce qui garantit sa qualité depuis nos installations jusqu'à votre laboratoire ou site de production.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle méthode de pulvérisation convient à cette cible ?
R : Elle est spécialement conçue pour les procédés de pulvérisation cathodique.

Q : La cible de pulvérisation de Hafnium (Hf) peut-elle être fabriquée sur mesure ?
R : Oui, les clients peuvent demander des formes et des tailles personnalisées pour répondre aux exigences de leurs applications spécifiques.

Q : Quelles sont les industries qui utilisent couramment cette cible de pulvérisation ?
R : Elle est largement utilisée dans la fabrication de semi-conducteurs, l'électronique, l'aérospatiale et la recherche scientifique.

Q : Comment la cible est-elle fabriquée pour garantir une grande pureté ?
R : La cible est produite selon des processus de fabrication contrôlés qui respectent des normes de qualité rigoureuses afin de maintenir sa pureté ≥99 %.

Q : Quelles sont les recommandations de stockage pour cette cible ?
R : Elle doit être stockée dans un environnement propre et sec, idéalement sous vide, pour éviter toute contamination et garantir des performances optimales.