Arrêté (Arrêté) ST0018 Cible de pulvérisation cathodique en graphite (C)

Description de la cible de pulvérisation en graphite (C)

La cible de pulvérisation de graphite (C) est conçue pour des applications de pulvérisation avancées, offrant des performances supérieures grâce à sa grande pureté (≥99%) et à son excellente stabilité thermique. Cette cible est conçue pour produire des films minces uniformes et de haute qualité dans les industries des semi-conducteurs, des écrans et des revêtements, garantissant un dépôt efficace et cohérent des matériaux.

Applications des cibles de pulvérisation de graphite (C)

- Dépôt de couches minces : Permet un revêtement de précision pour la microélectronique, les écrans et les cellules solaires.
- Fabrication de semi-conducteurs : Utilisée pour les processus de pulvérisation dans la fabrication de circuits intégrés et de dispositifs.
- Ingénierie des surfaces : Appliquée pour améliorer les propriétés de surface telles que la dureté et la résistance à l'usure des composants industriels.
- Fabrication de capteurs : Fournit la conductivité et la stabilité nécessaires aux capteurs de haute performance.

Emballage des cibles de pulvérisation de graphite (C)

Notre cible de pulvérisation de graphite (C) est solidement emballée sous vide pour préserver sa pureté et ses performances pendant le transport et le stockage.
Options d'emballage :
- Standard : 5 kg par sac
- Des options personnalisées sont disponibles sur demande pour des quantités plus importantes ou des dimensions spéciales.

Questions fréquemment posées

Q : Quelle est l'application principale des cibles de pulvérisation de graphite (C) ?
R : Elles sont principalement utilisées dans les processus de pulvérisation pour déposer des couches minces pour les dispositifs à semi-conducteurs, les écrans et les revêtements de surface.

Q : Comment la pureté du graphite est-elle vérifiée ?
R : La pureté est assurée par des mesures rigoureuses de contrôle de la qualité et des techniques d'analyse pour confirmer qu'elle atteint ou dépasse des niveaux de pureté ≥99%.

Q : Qu'indique la désignation de pulvérisation PDC ?
R : PDC fait référence à la compatibilité spécifique du processus de pulvérisation et aux conditions opérationnelles optimisées pour cette cible de graphite.

Q : La forme de la cible de pulvérisation peut-elle être personnalisée ?
R : Oui, notre cible de pulvérisation en graphite (C) est disponible sous forme de disque standard ou peut être personnalisée pour répondre aux besoins d'applications spécifiques.

Q : Quels sont les avantages de la liaison indium-élastomère ?
R : Ce type de liaison garantit une excellente adhérence et une grande stabilité pendant le processus de pulvérisation, ce qui améliore les performances globales et la durabilité de la cible.