Discontinued (Arrêté) ST0015 Cible de pulvérisation de gadolinium (Gd)

Description de la cible de pulvérisation de gadolinium (Gd)

La cible de pulvérisation de gadolinium (Gd) est conçue pour des applications industrielles avancées, offrant des performances exceptionnelles dans les processus de dépôt de couches minces. Fabriquée avec du Gd de haute pureté (≥99%), la cible est disponible sous forme de disque standard ou peut être fabriquée sur mesure selon les spécifications du client. Avec un point de fusion de 1312℃ et une densité de 7,9 g/cm³, elle est optimisée pour la pulvérisation DC, ce qui la rend idéale pour les applications électroniques, optiques et de recherche. Sa qualité constante et sa fiabilité en font un choix privilégié pour la production de revêtements et de composants microélectroniques de haute performance.

Applications des cibles de pulvérisation de gadolinium (Gd)

- Électronique : Idéale pour la microélectronique et la fabrication de circuits intégrés où la stabilité du matériau est essentielle.
- Technologie d'affichage : Utilisées dans la fabrication de revêtements d'affichage et de filtres optiques avancés.
- Recherche et développement : Parfait pour le dépôt expérimental de couches minces et la recherche sur les matériaux.
- Revêtements de surface : Convient aux applications nécessitant une précision et une uniformité dans le dépôt par pulvérisation cathodique.
- Procédés industriels spécialisés : Applicable à la pulvérisation industrielle à haute performance pour les capteurs et les nouveaux dispositifs.

Emballage des cibles de pulvérisation de gadolinium (Gd)

Notre cible de pulvérisation de gadolinium (Gd) est soigneusement emballée pour garantir que sa grande pureté et ses performances restent intactes pendant le transport. La cible est scellée sous vide dans des options d'emballage personnalisées selon les exigences du client, ce qui garantit une livraison sûre et fiable.

Questions fréquemment posées

Q : Quel est le niveau de pureté de la cible de pulvérisation de gadolinium ?
R : La cible est fabriquée avec un niveau de pureté de ≥99%.

Q : Quelle méthode de pulvérisation est recommandée pour l'utilisation de cette cible ?
R : Cette cible est conçue principalement pour les applications de pulvérisation à courant continu.

Q : La cible est-elle disponible en différentes formes ou tailles ?
R : Oui, elle est disponible sous forme de disque standard et peut également être fabriquée sur mesure en fonction des besoins spécifiques du client.

Q : Quel est le point de fusion de la cible et pourquoi est-il important ?
R : Le point de fusion est de 1312℃, ce qui garantit la stabilité du matériau dans les processus de pulvérisation à haute température.

Q : Comment la cible de pulvérisation au gadolinium est-elle emballée pour l'expédition ?
R : Elle est scellée sous vide et emballée de manière sécurisée, avec des options d'emballage personnalisé pour répondre à des besoins de livraison spécifiques.