CY5457 Substrat de saphir à motifs

Catalogue No.	CY5457
Matériau	Al2O3 monocristallin
Taille	Dia. 50,80 ± 0,10, Dia. 100,00 ± 0,10 (mm)
Polissage	Polissage d'un seul côté, prêt à l'emploi
La purée	>99.99%

Lesubstrat de saphir à motifs est un substrat de saphir spécialisé à micro-motifs largement utilisé dans le développement de produits de haute puissance. Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de substrats en cristal de haute qualité.

Produits connexes : Plaque de saphir, substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, plaque épitaxiale de saphir, plaque EPI, fenêtres de saphir

ENQUÊTE

Description

Spécifications

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Matériau	_Al2O3 monocristallin
Qualité	Prime, Epi-Ready
Orientation de la surface	Plan C (0001)
Diamètre (mm)	50.80 ± 0.10, 100.00 ± 0.10
Épaisseur (μm)	660 ± 10
Orientation du plat primaire	Plan A(11-20) +/- 0.2°
Longueur du méplat primaire	16,0 mm +/- 1,0 mm
Polissage	Polissage d'une seule face
Variation totale de l'épaisseur (TTV)	≤10 um
Déformation	15 um
Pureté	>99.99%
Largeur du motif (μm)	2.75~2.85
Hauteur du motif (μm)	1.65~1.85
Pas du motif (μm)	3.0 ± 0.05

Matériau	_Al2O3 monocristallin
Qualité	Prime, Epi-Ready
Orientation de la surface	Plan C (0001)
Diamètre (mm)	50.80 ± 0.10, 100.00 ± 0.10
Épaisseur (μm)	660 ± 10
Orientation du plat primaire	Plan A(11-20) +/- 0.2°
Longueur du méplat primaire	16,0 mm +/- 1,0 mm
Polissage	Polissage d'une seule face
Variation totale de l'épaisseur (TTV)	≤10 um
Déformation	15 um
Pureté	>99.99%
Largeur du motif (μm)	2.75~2.85
Hauteur du motif (μm)	1.65~1.85
Pas du motif (μm)	3.0 ± 0.05

CY5457 Substrat de saphir à motifs

Description du substrat de saphir à motifs

Spécifications du substrat de saphir à motifs

Substrat de saphir modelé Vue SEM

Application du substrat de saphir structuré

Emballage du substrat de saphir structuré

Spécifications

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