Four tubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 Description
Le fourtubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 comprend un four tubulaire de la série OTF-1200X, une station de contrôle du débit massique de gaz de précision, une station de vide poussé et d'autres composants essentiels. Cette station de travail a une température de travail maximale de 1200°C et peut atteindre un niveau de vide ultime de 10^-4 torr avec l'ensemble d'étanchéité fourni. La station de contrôle du débit massique de gaz peut mélanger jusqu'à trois types de gaz et permet aux gaz mélangés de s'écouler dans un tube en quartz fondu à l'intérieur du four. Ce dispositif est idéal pour mener des expériences telles que le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la diffusion et d'autres traitements thermiques dans des conditions de vide et avec une protection par gaz de protection.
Four tubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 Spécifications
Fourtubulaire dela série OTF-1200X
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Structure du four
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- Enveloppe en acier à double couche avec refroidissement par air.
- Thermostat intégré pour contrôler le fonctionnement automatique du refroidissement lorsque la température est supérieure à 55°C.
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Tube de traitement
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- Matériau : Tube en quartz fondu
- Un tube de traitement est fourni avec le four.
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Puissance
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2.5KW, 208-240VAC, monophasé, 50/60Hz
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Temp. de travail
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- Temp. max. Température : 1200℃ (1 h) ; 1100℃ (en continu)
- Vitesse de chauffage : ≤20℃/min
- Précision de la température : ±1.0℃
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Longueur de la zone de chauffage
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- Zone de chauffage totale : 440 mm
- Zone de température constante : 150mm (±1°C) Zone : 150mm (±1°C)
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Éléments chauffants
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Alliage Fe-Cr-Al dopé au Mo
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Contrôleur de temp. Contrôleur de température
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- Contrôle automatique PID avec 30 segments programmables.
- Précision de la température : ±1°C
- Thermocouple : Type K intégré dans le four
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Joint à vide
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- Une paire de brides à vide en acier inoxydable avec :
un manomètre mécanique
deux vannes à pointeau
un connecteur KF-25 pour la station de vide poussé
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Puissance
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100-110W
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Tension nominale
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208-240VAC, monophasé, 50/60Hz
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Station de vide poussé
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Structure
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Dimensions du chariot mobile : 600 (L) x 600 (l) x 700 (H), mm
Chargement max. Chargement : 600 Lbs sur le dessus
Panneau de contrôle de la pompe moléculaire : LCD numérique
Intérieur : pompe à vide
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Débit volumétrique
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Azote N2 : 33 L/s
Hélium He : 39 L/s (2340L/minute)
Hydrogène H2 : 32 L/s
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Plage de travail
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De 1000 mbar à <1E-7 mbar
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Pression ultime
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<1E-8 mbar (sans fuite)
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Contrôle du débit massique de gaz
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Structure
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Vanne en acier inoxydable 316
Réservoir de mélange de gaz : Φ80X120mm
600 mm(L) x 745 mm(L) x 700 mm(H)
Panneau de commande à écran tactile couleur de 6 pouces pour faciliter le réglage des paramètres.
Commande par écran tactile et télécommande PC commutables.
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Puissance
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23W par canal
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Tension nominale
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AC 220V/50Hz monophasé
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Four tubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 Applications
- Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) : Utilisé pour déposer des couches minces et des revêtements sur des substrats en mélangeant et en faisant réagir différents gaz à des températures élevées.
- Processus de diffusion : Facilite le mouvement des atomes ou des molécules à l'intérieur des solides, ce qui est essentiel dans la fabrication des semi-conducteurs et d'autres sciences des matériaux.
- Recuit : Aide à soulager les contraintes internes, à améliorer la ductilité et à affiner la microstructure des matériaux.
- Frittage : Convient pour compacter et former des masses solides à partir de matériaux en poudre sans les liquéfier, largement utilisé dans les céramiques et la métallurgie.
- Recherche sur les matériaux : Idéal pour étudier les propriétés thermiques et le comportement de différents matériaux dans des conditions atmosphériques contrôlées.
Four tubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 Emballage
Notre four tubulaire 1200C pour CVD OTF-1200X-HVC3 est manipulé avec soin pendant le stockage et le transport afin de préserver la qualité de notre produit dans son état d'origine.
Spécifications
Fourtubulaire dela série OTF-1200X
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Structure du four
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- Enveloppe en acier à double couche avec refroidissement par air.
- Thermostat intégré pour contrôler le fonctionnement automatique du refroidissement lorsque la température est supérieure à 55°C.
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Tube de traitement
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- Matériau : Tube en quartz fondu
- Un tube de traitement est fourni avec le four.
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Puissance
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2.5KW, 208-240VAC, monophasé, 50/60Hz
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Temp. de travail
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- Temp. max. Température : 1200℃ (1 h) ; 1100℃ (en continu)
- Vitesse de chauffage : ≤20℃/min
- Précision de la température : ±1.0℃
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Longueur de la zone de chauffage
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- Zone de chauffage totale : 440 mm
- Zone de température constante : 150mm (±1°C) Zone : 150mm (±1°C)
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Éléments chauffants
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Alliage Fe-Cr-Al dopé au Mo
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Contrôleur de temp. Contrôleur de température
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- Contrôle automatique PID avec 30 segments programmables.
- Précision de la température : ±1°C
- Thermocouple : Type K intégré dans le four
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Joint à vide
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- Une paire de brides à vide en acier inoxydable avec :
un manomètre mécanique
deux vannes à pointeau
un connecteur KF-25 pour la station de vide poussé
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Puissance
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100-110W
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Tension nominale
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208-240VAC, monophasé, 50/60Hz
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Station de vide poussé
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Structure
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Dimensions du chariot mobile : 600 (L) x 600 (l) x 700 (H), mm
Chargement max. Chargement : 600 Lbs sur le dessus
Panneau de contrôle de la pompe moléculaire : LCD numérique
Intérieur : pompe à vide
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Débit volumétrique
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Azote N2 : 33 L/s
Hélium He : 39 L/s (2340L/minute)
Hydrogène H2 : 32 L/s
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Plage de travail
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De 1000 mbar à <1E-7 mbar
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Pression ultime
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<1E-8 mbar (sans fuite)
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Contrôle du débit massique de gaz
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Structure
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Vanne en acier inoxydable 316
Réservoir de mélange de gaz : Φ80X120mm
600 mm(L) x 745 mm(L) x 700 mm(H)
Panneau de commande à écran tactile couleur de 6 pouces pour faciliter le réglage des paramètres.
Commande par écran tactile et télécommande PC commutables.
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Puissance
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23W par canal
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Tension nominale
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AC 220V/50Hz monophasé
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