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Catalogue No. | CY3344 |
Matériau | LaSrAlO4 |
Densité | 5,92 g/cm3 |
Point de fusion | 1650 ℃ |
Méthode de croissance | Czochralski |
Lesubstrat monocristallin LaSrAlO4 est utilisé pour produire des films à une température plus basse afin d'améliorer la désadaptation du réseau et de réduire les contraintes. Stanford Advanced Materials (SAM) possède une grande expérience dans la fabrication et la fourniture de substrats cristallins de haute qualité.
Produits apparentés : Substrats cristallins de fluorure de lithium (LiF), Substrats cristallins de tantalate de potassium (KTaO3), Substrats cristallins LSAT
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