TM9480 Substrat de titane Substrat de titane 10x5x0.5 mm, SSP

Substrat de titane Ti Substrat 10x5x0.5 mm, SSP Description

Le substrat en titane Ti Substrate 10x5x0,5 mm, SSP comprend du titane métallique formé aux dimensions exactes de 10 mm x 5 mm x 0,5 mm. L'épaisseur définie garantit la compatibilité avec les équipements de traitement standard, tandis que sa nature chimiquement inerte minimise les réactions indésirables. Les méthodes de caractérisation de la surface, telles que la profilométrie, confirment une planéité propice au dépôt ultérieur de films et à d'autres intégrations de matériaux, répondant ainsi aux exigences techniques de montages expérimentaux précis.

Substrat de titane Substrat de titane 10x5x0.5 mm, SSP Applications

1.électronique
- Utilisé comme substrat pour le dépôt de couches minces sur des dispositifs de capteurs afin d'obtenir une adhésion stable de la couche en tirant parti de sa composition de titane chimiquement inerte.
- Utilisé comme base pour les composants microélectroniques dans la fabrication de circuits intégrés afin de contrôler les réactions interfaciales en tirant parti de sa stabilité dimensionnelle.

2.industriel
- Utilisé comme support structurel dans les équipements de traitement à haute température pour réguler la dilatation thermique en tirant parti de son épaisseur contrôlée et de sa finition de surface plane.
- Utilisé comme plaque de support dans les processus de revêtement pour maintenir la cohérence pendant les traitements thermiques en tirant parti de ses propriétés matérielles uniformes.

Substrat de titane Substrat de titane 10x5x0,5 mm, emballage SSP

Le substrat de titane est placé dans un sachet en polyéthylène antistatique de qualité salle blanche et dans un conteneur doublé de mousse pour atténuer les chocs mécaniques. L'emballage est conçu pour être stocké dans un environnement sans poussière et à température contrôlée, avec des recommandations pour une manipulation minimale afin de réduire les risques de contamination. Des options d'emballage personnalisées, y compris la compartimentation individuelle et l'étiquetage spécifique, sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quel est l'impact de l'état de surface du substrat sur les processus de dépôt de film ultérieurs ?
R1 : Une surface plane et uniforme minimise la variabilité de la nucléation et favorise une croissance régulière du film pendant le dépôt. Les évaluations par profilométrie confirment l'intégrité de la surface requise pour une adhésion fiable des couches dans les applications de semi-conducteurs et de capteurs.

Q2 : Quelles mesures garantissent la précision dimensionnelle du substrat en titane ?
R2 : Le substrat subit un traitement atmosphérique contrôlé et est mesuré à l'aide d'une microscopie optique et d'une profilométrie calibrées. Ces méthodes garantissent que les dimensions de 10x5x0,5 mm respectent strictement les tolérances requises pour l'intégration dans des systèmes de précision.

Q3 : Ce substrat en titane peut-il résister à des environnements de traitement à haute température ?
R3 : Oui, la stabilité thermique inhérente au titane et la stabilité dimensionnelle vérifiée du substrat lui permettent de fonctionner efficacement dans des conditions de haute température, en garantissant une dilatation thermique minimale pendant les étapes de traitement.

Informations complémentaires

En science des matériaux, le titane est souvent utilisé comme base pour le dépôt de couches minces, où ses propriétés d'oxydation stables fournissent une interface cohérente pour l'intégration de matériaux expérimentaux.

Comprendre le comportement du titane dans différentes conditions environnementales permet d'optimiser son utilisation dans des applications allant du traitement des semi-conducteurs aux systèmes de revêtement industriels. La communauté scientifique continue d'explorer son potentiel pour améliorer les performances des appareils grâce à des interactions contrôlées entre les matériaux et à des techniques de fabrication de précision.