ST9136 Cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N)

Cible de pulvérisation de platine haute pureté (5N) Description

Notre cible de pulvérisation de platine haute pureté (5N) est méticuleusement fabriquée à partir de platine pur à 99,999 %, offrant une qualité exceptionnelle pour les processus de dépôt de couches minces les plus exigeants. La résistance supérieure à la corrosion, la stabilité thermique et la conductivité électrique du platine en font un choix indispensable pour les applications en microélectronique, les technologies des capteurs et les solutions de stockage de l'énergie. Ce matériau de haute pureté garantit une formation uniforme du film et une contamination minimale, ce qui améliore les performances et la fiabilité des dispositifs.

Fabriquée selon des normes de qualité strictes, notre cible de platine 5N est soumise à des tests rigoureux de pureté, de densité et d'état de surface. Le résultat est une cible de pulvérisation qui garantit des taux de dépôt répétables et une épaisseur de couche constante dans une gamme de processus de fabrication. Que vous développiez des semi-conducteurs de nouvelle génération ou des revêtements optiques spécialisés, notre cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) est votre partenaire de confiance pour atteindre une précision et une longévité inégalées.

Applications de la cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N)

Cette cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) offre une inertie chimique exceptionnelle, une conductivité extraordinaire et une stabilité thermique supérieure. Son niveau de pureté avancé garantit un minimum d'impuretés, ce qui la rend idéale pour les applications où la précision et la fiabilité sont essentielles. Qu'elle soit utilisée dans la production industrielle, la recherche de pointe ou les technologies commerciales, cette cible de pulvérisation optimise les performances dans des conditions extrêmes tout en maintenant des résultats constants et de haute qualité.

1) Applications industrielles

-Application 1 : Revêtements supérieurs résistants à la corrosion pour les équipements de traitement chimique, garantissant une durabilité à long terme et des temps d'arrêt minimaux.

-Application 2 : couches conductrices de haute performance dans les composants électroniques, offrant une excellente conductivité et une bonne gestion thermique.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Application 1 : Dépôt de couches minces pour le développement de capteurs avancés, permettant des mesures précises et fiables.

-Application 2 : expérimentation de la science des matériaux en nanoélectronique, permettant des découvertes révolutionnaires en matière d'architectures de dispositifs efficaces.

3) Applications commerciales

-Application 1 : Placage de haute qualité et finitions de bijoux qui conservent leur éclat et résistent au ternissement au fil du temps.

-Application 2 : composants d'appareils médicaux de première qualité, offrant une biocompatibilité et des performances stables dans les applications de soins de santé critiques.

Conditionnement des cibles de pulvérisation de platine de haute pureté (5N)

Chaque cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) est soigneusement emballée dans un emballage antistatique scellé sous vide, avec un rembourrage en mousse pour la protéger contre les dommages mécaniques. Une barrière anti-humidité garantit la sécheresse, réduisant ainsi les risques d'oxydation. Pour une stabilité prolongée, le produit doit être conservé dans un environnement contrôlé, à l'abri des températures extrêmes et des contaminants. L'emballage comprend des scellés inviolables pour préserver la pureté. Des dimensions d'emballage et des options d'étiquetage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de la recherche ou de la fabrication.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du matériau de la cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) ?

R1 : La cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) a généralement une pureté de 99,999 %, ce qui garantit un minimum de contaminants tels que le fer, le nickel ou l'or. Sa densité est d'environ 21,45 g/cm³ et elle peut résister à des conditions de traitement extrêmes sans se dégrader, ce qui permet d'obtenir des résultats cohérents et uniformes pour le dépôt de films.

Q2 : Comment doit-on manipuler et stocker les cibles de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) ?

R2 : Ces cibles doivent être manipulées avec des gants propres dans un environnement contrôlé afin d'éviter toute contamination de surface. Elles doivent être stockées dans un conteneur spécial composé de matériaux non réactifs, à l'abri de l'humidité et des produits chimiques corrosifs. Évitez les contacts et les frottements inutiles qui pourraient générer des particules ou des rayures. Nettoyez délicatement la surface de la cible à l'aide de lingettes sèches, non huilées et non pelucheuses, afin qu'elle reste intacte pour des performances de pulvérisation optimales et une longue durée de vie.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables aux cibles de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) ?

A3 : Les cibles de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) sont souvent conformes à la norme ISO 9001 et à d'autres normes industrielles pertinentes qui régissent l'intégrité et la traçabilité des matériaux. Des méthodes analytiques telles que l'ICP-MS ou le GD-MS vérifient la composition élémentaire et confirment une pureté de 99,999 %. Les propriétés mécaniques, la densité et l'état de surface des matériaux sont testés pour en vérifier la cohérence. Des certificats d'analyse sont généralement fournis pour documenter la conformité aux exigences des spécifications, garantissant ainsi la fiabilité des processus critiques de recherche et de fabrication.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

La fabrication de la cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) commence par des méthodes de raffinage avancées pour améliorer la propreté intrinsèque du platine. Cette procédure spécialisée implique généralement plusieurs processus de purification, utilisant des techniques de raffinage à haute température et de cristallisation précise qui éliminent même les contaminants à l'état de traces.

Après avoir atteint les normes de pureté souhaitées, le matériau subit une étape de formage soigneusement contrôlée pour produire des cibles d'une épaisseur et d'une structure uniformes. Une combinaison de fusion sous vide, de forgeage à chaud et de polissage méticuleux garantit que le produit fini présente une structure granulaire supérieure, une résilience améliorée et des performances de pulvérisation exceptionnelles dans les applications critiques.

2. Applications dans les industries de pointe

Utilisée dans la microélectronique de pointe, la cible de pulvérisation de platine de haute pureté (5N) est un matériau essentiel pour la fabrication de couches conductrices et de revêtements protecteurs ultraminces. Sa pureté exceptionnelle permet de maintenir des caractéristiques électriques stables, ce qui la rend inestimable pour les puces, les capteurs et les semi-conducteurs qui exigent des performances constantes et fiables.

Réputée pour sa résistance chimique et sa capacité à supporter des températures extrêmes, cette cible de platine trouve également une large utilité dans les appareils médicaux haut de gamme et l'optique spécialisée. Les chercheurs et les fabricants s'appuient sur sa qualité, sa pureté et son uniformité inégalées pour concevoir des produits innovants allant des composants implantables aux filtres optiques avancés.