{{flagHref}}
Produits
  • Produits
  • Catégories
  • Blog
  • Podcast
  • Application
  • Document
|
/ {{languageFlag}}
Sélectionnez la langue
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
PRODUIT Stanford Advanced Materials
Métaux
Céramique
Laboratoires
Optique
Acide hyaluronique
Composés
Composites
Aimants
Produits Produits
{{item.label}}
FORMULAIRES
Barres Barres Perles et sphères Perles et sphères Boulons et écrous Boulons et écrous Creusets Creusets Disques Disques Fibres et tissus Fibres et tissus Films Films Flocon Flocon Mousses Mousses Feuille d'aluminium Feuille d'aluminium Granulés Granulés Nids d'abeilles Nids d'abeilles Encre Encre Stratifié Stratifié Grumeaux Grumeaux Mailles Mailles Film métallisé Film métallisé Assiette Assiette Poudres Poudres Tige Tige Feuilles Feuilles Cristaux simples Cristaux simples Cible de pulvérisation Cible de pulvérisation Tubes Tubes Laveuse Laveuse Fils Fils
INDUSTRIES
Chimie et pharmacie Industrie pharmaceutique Aérospatiale Agriculture Automobile Fabrication de produits chimiques Dentisterie Électronique Stockage d'énergie et batteries Piles à combustible Métaux de qualité Bijoux et mode Eclairage Médical Pétrole et gaz Optique Papier et pâte à papier Produits pharmaceutiques et cosmétiques Placage Recherche et laboratoire Énergie solaire L'espace Producteurs d'acier et d'alliages Équipement sportif Textiles et tissus
CANDIDATURES
Applications du tungstène Métallurgie Semi-conducteurs Aimants en terres rares Catalyseur Poudre d'impression 3D Poudre d'alliage à haute entropie Moulage par injection de métal Fabrication additive Revêtements par pulvérisation thermique Pressage isostatique à chaud Application des terres rares Catalyseurs environnementaux Bande de marquage Matériaux OLED Fil de thermocouple Garnitures et internes Batteries Li-ion et produits chimiques électroniques Poudres métalliques pour outils diamantés Poudre magnétique douce
RESSOURCES
Blogs Podcast Matériaux supérieurs Vue du tableau périodique Normes ASTM Documents de recherche Convertisseurs et calculatrices Convertisseurs et calculatrices Certificats d'analyse (COA) Fiches de données de sécurité (FDS) Glossaire
SOCIÉTÉ
À propos de nous Nous contacter Soutien à la clientèle Brochures produits Promotions actuelles Services personnalisés Solutions d'emballage Essais de matériaux Durabilité et réduction des émissions de carbone Expositions Écrire pour nous Écrire pour nous
0
DEMANDER UN DEVIS
Stanford Advanced Materials
Sélectionnez la langue
Stanford Advanced Materials {{item.label}}
0
Demande
Stanford Advanced Materials
  • Maison
  • Accueil
  • Produits
  • Formulaire
  • Cible de pulvérisation
  • ST11471 Cible planaire en nitrure de tantale, cible TaN

    • ST11471 Cible planaire en nitrure de tantale, cible TaN

    Catalogue No. ST11471
    Composition TaN
    Forme Rectangulaire
    Formulaire Cible
    Pureté ≥98%

    La cible planaire en nitrure de tantale, ou cible TaN, est une cible de pulvérisation produite par des processus de pulvérisation réactifs contrôlés, garantissant une composition chimique définie. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise la microscopie électronique à balayage en ligne pour contrôler la morphologie de la surface et l'uniformité de la microstructure. Ces mesures permettent de maintenir une stœchiométrie précise pour améliorer les performances de dépôt de couches minces dans des environnements contrôlés.

    ENQUÊTE
    Ajouter à la comparaison
    Description
    Spécifications
    Avis
    Écrire un avis
    Nom
    Courriel
    Évaluation
    Télécharger l'avatar
    Révision

    FAQ

    Quelles sont les considérations essentielles à prendre en compte lors de l'utilisation d'une cible de pulvérisation TaN pour le dépôt de couches minces ?

    Lors de l'utilisation d'une cible TaN, il est essentiel de fournir une puissance constante et de refroidir le substrat pour maintenir l'uniformité du film. La surveillance des paramètres du plasma garantit que la stœchiométrie est préservée pendant le dépôt. Les ajustements du flux de gaz réactif aident à gérer l'adhésion du film et à minimiser la contamination.

    Comment la conception planaire de la cible TaN améliore-t-elle les performances de pulvérisation ?

    La conception planaire favorise une érosion uniforme pendant la pulvérisation, ce qui entraîne une distribution régulière du film déposé. Cette uniformité structurelle minimise l'éjection des particules et réduit les pertes de cibles, améliorant ainsi la reproductibilité des caractéristiques du film mince.

    Quelles sont les précautions à prendre lors de l'installation et de la manipulation d'une cible de pulvérisation TaN ?

    Il faut veiller à éviter les chocs mécaniques et la contamination des surfaces lors de l'installation. L'utilisation d'outils de manipulation antistatiques et le respect d'un environnement de salle blanche réduiront la contamination particulaire et préserveront l'intégrité de la surface de la cible.

    DERNIERS RECOMMANDÉS

    Aluminum (Al) Sputtering Target
    ST0001 Cible de pulvérisation d'aluminium (Al)
    Ajouter à la comparaison
    Barium (Ba) Sputtering Target
    ST0003 Cible de pulvérisation de baryum (Ba)
    Ajouter à la comparaison
    Boron (B) Sputtering Target
    ST0005 Cible de pulvérisation du bore (B)
    Ajouter à la comparaison
    Cadmium (Cd) Sputtering Target
    ST0006 Cible de pulvérisation cathodique de cadmium (Cd)
    Ajouter à la comparaison
    https://www.samaterials.com/images/sc/1768529895-normal-ST0007.jpg
    ST0007 Cible de pulvérisation cathodique pour le calcium (Ca)
    Ajouter à la comparaison
    Chromium (Cr) Sputtering Target
    ST0009 Cible de pulvérisation du chrome (Cr)
    Ajouter à la comparaison
    Cobalt (Co) Sputtering Target
    ST0010 Cible de pulvérisation de cobalt (Co)
    Ajouter à la comparaison
    Copper (Cu) Sputtering Target
    ST0011 Cible de pulvérisation cathodique pour le cuivre (Cu)
    Ajouter à la comparaison

    OBTENIR UN DEVIS

    Envoyez-nous une demande dès aujourd'hui pour en savoir plus et recevoir les derniers tarifs. Merci !

    * Votre nom
    * Votre Email
    * Nom du produit
    * Votre téléphone
    * Pays

    France

      Purity

      99.9%

      • 99.9%
      • 99.5%
      • 99.99%
      • 99.999%
      • Other
      Diameter

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
      • 6''
      • Autres
      • Other
      Thickness

      0.25''

      • 0.25''
      • 0.125''
      • Tous
      • Other
      Bonding

      Oui

      • Oui
      • Non
      • Other
      Commentaires
      Je souhaite rejoindre la liste de diffusion pour recevoir des mises à jour de Stanford Advanced Materials.
      Joindre les dessins:

      Déposez vos fichiers ici ou

      * Code de vérification
      Types de fichiers acceptés : PDF, png, jpg, jpeg. Vous pouvez télécharger plusieurs fichiers à la fois ; chaque fichier doit avoir une taille inférieure à 2 Mo.

      Laisser un message
      Laisser un message

      S'il vous plaît remplir vos détails RFQ et l'un des ingénieurs de vente vous répondra dans les 24 heures. Si vous avez des questions, Vous pouvez nous appeler au 949-407-8904 (PST 8h à 17h).

      * Votre nom:
      * Votre Email:
      * Nom du produit:
      * Votre téléphone:
      * Commentaires:

      Tel : (949) 407-8904
      Adresse : 1940 East Deere Avenue, Suite 100, Santa Ana, CA 92705, U. S. A

      BESOIN D'AIDE ?

      Convertisseurs et calculatrices Nous contacter Obtenir un devis Liste de demande de renseignements Conditions générales d'utilisation Politique de confidentialité Nouveaux produits

      CATÉGORIES POPULAIRES

      Métaux réfractaires Matériaux céramiques Éléments des terres rares Cibles de pulvérisation Acide hyaluronique Aimants en néodyme Poudre d'alliages à haute entropie

      NOTRE ENTREPRISE

      À propos de nous Promotions actuelles Nouvelles et blogs Études de cas Profil de l'entreprise Fiches de données de sécurité Écrire pour nous

      Copyright © 1994-2025 Stanford Advanced Materials propriété d'Oceania International LLC, Tous droits réservés.