ST11467 Cible Titane Silicium, Cible TiSi

Cible en titane et silicium, cible TiSi Description

La cible de titane et de silicium (cible TiSi) est un composant de pulvérisation fabriqué avec une composition précise de TiSi, destiné aux processus de dépôt dans la fabrication des semi-conducteurs et de la microélectronique. Sa conception met l'accent sur le contrôle de la stœchiométrie et la minimisation de la génération de particules pendant la pulvérisation. La cible permet un dépôt efficace du film, garantissant la reproductibilité du processus et des propriétés de revêtement uniformes, essentielles pour la fabrication de dispositifs avancés.

Cible Titane Silicium, cible TiSi Applications

1.électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs pour former des barrières ou des couches conductrices, pour résoudre les problèmes d'uniformité du film en tirant parti de la composition contrôlée du TiSi.
- Appliquée comme cible de dépôt dans la fabrication d'écrans plats pour obtenir une épaisseur de film précise, garantissant des propriétés optiques et électriques cohérentes.

2)Industrie
- Sert de matériau de revêtement dans la production de films minces pour les capteurs de précision, surmontant les problèmes d'adhérence en utilisant la microstructure uniforme de la cible.
- Employé comme source de couches protectrices dans les systèmes d'emballage électronique pour atténuer l'usure et la corrosion grâce à des processus de dépôt contrôlés.

Cible en titane et silicium, emballage de la cible TiSi

La cible de silicium titane est emballée dans un conteneur protecteur antistatique avec des inserts en mousse personnalisés pour amortir les chocs mécaniques et minimiser la contamination particulaire. Elle est scellée dans une boîte rigide et résistante à l'humidité pour maintenir la propreté pendant le transport et le stockage. Les protocoles d'emballage exigent un stockage dans un environnement propre et à température stable. Un étiquetage personnalisé et d'autres configurations d'emballage sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation cathodique telles que la cible titane-silicium jouent un rôle crucial dans le dépôt de matériaux lorsqu'un contrôle précis de l'épaisseur et de la composition du film est nécessaire. Ces cibles sont conçues pour répondre aux exigences des applications des semi-conducteurs et de la microélectronique à haute performance, où même des variations mineures dans les propriétés du film peuvent affecter de manière significative les performances de l'appareil.

Les progrès réalisés dans la fabrication des cibles ont permis d'améliorer la reproductibilité et de réduire la densité des défauts dans les films déposés. Il est essentiel de comprendre les relations entre la composition des cibles, les paramètres de pulvérisation et les propriétés des films pour optimiser les processus de fabrication et garantir des performances constantes des produits dans diverses applications industrielles et de recherche.