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  • ST11464 Cible planaire aluminium-titane-silicium, cible AlTiSi

    • ST11464 Cible planaire aluminium-titane-silicium, cible AlTiSi

    Catalogue No. ST11464
    Composition AlTiSi
    Forme Rectangulaire
    Formulaire Cible
    Pureté Al+Ti+Si : ≥99%

    La cible planaire aluminium-titane-silicium (AlTiSi) est conçue pour les processus de dépôt par pulvérisation cathodique. Elle incorpore un mélange équilibré d'aluminium, de titane et de silicium pour obtenir une structure planaire cohérente propice à la formation d'un film mince uniforme. Stanford Advanced Materials (SAM) applique une fusion sous vide contrôlée et un usinage précis pendant la production. Les mesures de contrôle de la qualité comprennent la vérification spectroscopique de la composition élémentaire et de l'état de surface afin de minimiser les irrégularités dans les applications techniques.

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    FAQ

    Quelles mesures permettent de minimiser les variations de composition dans le matériau cible ?

    Le processus de fabrication fait appel à un mélange intensif et à une fusion contrôlée des matières premières. Ces étapes réduisent les différences de composition locales et contribuent à un processus de pulvérisation uniforme. Contactez-nous pour plus de détails.

    Quel est l'impact de la configuration planaire sur l'efficacité de la pulvérisation ?

    Une structure plane produit un bombardement ionique régulier, ce qui se traduit par un taux d'érosion uniforme pendant la pulvérisation. Cette uniformité favorise un dépôt stable du film et une uniformité de l'épaisseur. Contactez-nous pour de plus amples informations techniques.

    Quels sont les tests de contrôle de la qualité effectués pendant la production ?

    Le processus de production comprend une analyse spectroscopique et des évaluations de la morphologie de la surface. Ces tests vérifient la composition élémentaire ciblée et contrôlent les irrégularités de surface conformément aux normes industrielles. Contactez-nous pour plus d'informations.

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