ST11460 Cible planaire Cobalt Chrome Fer Nickel, cible CoCrFeNi

Cible planaire Cobalt Chrome Fer Nickel, cible CoCrFeNi Description

La cible planaire Cobalt Chrome Fer Nickel, cible CoCrFeNi est une cible de pulvérisation composée d'un alliage Co-Cr-Fe-Ni. Fabriquée à l'aide de procédés métallurgiques contrôlés, elle conserve une composition et un profil d'érosion uniformes pendant la pulvérisation. La conception planaire permet un dépôt de film stable dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et de revêtements fonctionnels. L'inertie chimique de l'alliage contribue à l'homogénéité des caractéristiques des couches minces dans diverses applications industrielles.

Cible planaire cobalt-chrome-fer-nickel, cible CoCrFeNi Applications

Fabrication de produits électroniques et de semi-conducteurs
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs pour obtenir un dépôt uniforme de couches minces en tirant parti de la composition homogène de l'alliage. Cette application minimise les variations microstructurales et améliore les performances des dispositifs.
- Utilisé dans la production de couches conductrices dans les circuits microélectroniques pour assurer une croissance stable du film en utilisant ses caractéristiques d'érosion contrôlée.

Revêtements industriels
- Utilisé comme matériau de base pour le dépôt de revêtements protecteurs sur des composants industriels afin d'améliorer la résistance à la corrosion grâce à ses propriétés chimiques constantes. Cette approche améliore la durabilité de la surface sous les contraintes opérationnelles.

Cible planaire Cobalt Chrome Fer Nickel, CoCrFeNi Emballage de la cible

La cible est emballée dans un conteneur protecteur antistatique doublé de mousse pour absorber les chocs pendant le transport. Une barrière scellée minimise l'exposition aux contaminants et l'emballage est conçu pour être stocké dans un environnement contrôlé à des températures stables afin de préserver l'intégrité du matériau. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de manipulation et de protection contre la contamination.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation fabriquées à partir d'alliages à plusieurs composants, tels que le CoCrFeNi, font partie intégrante des processus de dépôt de couches minces utilisés dans divers secteurs industriels. Leurs performances dépendent de la cohérence de la composition de l'alliage et de la précision de la configuration géométrique. Des techniques de caractérisation avancées, notamment la microscopie électronique à balayage (MEB), sont utilisées pour vérifier l'uniformité de la structure et de la composition.

La compréhension de l'interaction entre la composition de la cible et les paramètres de pulvérisation permet d'optimiser la croissance du film. Les chercheurs et les ingénieurs tirent souvent parti de ces connaissances pour adapter les processus de dépôt, en relevant des défis tels que l'uniformité et l'adhérence du film, tout en améliorant les propriétés fonctionnelles des revêtements obtenus.