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Stanford Advanced Materials
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ST11221 Cible planaire en sulfure de zinc, cible ZnS

Catalogue No. ST11221
Composition ZnS
Pureté ≥99,99%, ou sur mesure
Formulaire Cible
Forme Rectangulaire
Dimensions Sur mesure

La cible planaire de sulfure de zinc, cible ZnS, est conçue pour des processus précis de dépôt par pulvérisation cathodique. La cible est fabriquée avec une géométrie planaire contrôlée pour permettre la formation d'un film mince uniforme. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise des inspections MEB détaillées et un frittage en atmosphère contrôlée pour confirmer l'homogénéité du matériau et le contrôle des impuretés. Ces protocoles techniques garantissent que la cible répond aux exigences rigoureuses d'un dépôt de film uniforme dans les applications industrielles.

ENQUÊTE
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Description
Spécifications
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FAQ

Quelle est l'importance de l'utilisation d'une géométrie planaire pour les cibles de pulvérisation de ZnS ?

Une géométrie plane garantit une épaisseur de film uniforme pendant la pulvérisation, réduisant ainsi les variations dans les couches déposées. Cette caractéristique est essentielle pour les processus qui exigent des propriétés optiques et électriques constantes. Contactez-nous pour plus de détails techniques.

Quel est l'impact du processus de frittage sur la qualité de la cible de ZnS ?

Le frittage contrôlé favorise une microstructure homogène et minimise les impuretés. Ce processus améliore la densité du matériau et ses performances globales lors du dépôt par pulvérisation cathodique. Contactez-nous pour en savoir plus sur le processus de fabrication.

Les dimensions de la cible de ZnS peuvent-elles être adaptées à des systèmes de pulvérisation spécifiques ?

Oui, les dimensions sont personnalisables pour répondre aux exigences de l'équipement, ce qui garantit la compatibilité avec divers systèmes de pulvérisation. Cette flexibilité permet l'intégration dans diverses installations de dépôt tout en maintenant l'uniformité du film. Contactez-nous pour connaître les options de personnalisation.

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